薄膜吸附貴金屬測試紫外

❶ 如何識別汽車改色貼膜的好壞優劣

一.透光度與清晰度，這是車用膜中關乎行車安全最重要的性能，一些太陽紙(俗稱茶色紙)雖然顏色很深，但透光度卻極低，貼上膜後黑呼呼一片，必須在側窗膜上挖一個孔來看倒後鏡，這對行車安全是相當危險的。而好的汽車防爆隔熱膜，不論顏色深淺，清晰度都非常高，不僅能在夜間行車時把後面來車大燈照射在倒後鏡的強烈眩光反射減弱，就是在雨夜行車、倒車或調頭也同樣視線良好。所以，用戶在貼膜時，一般都不要選擇透光度太低的膜。

二.隔熱性能，隔熱率是體現汽車防爆膜隔熱性能的重要指標，目前市場上的琥珀光學、龍膜、AC德科、雷朋等防爆膜，隔熱率一般在50%以上，高透光、高隔熱，既可提高行車的舒適性，又可降低空調負荷達到節油的目的。而之相反的很多膜，卻僅有透光度沒有隔熱率，甚至有些乾脆什麼指標也沒有。所以消費者在貼膜時除了要看隔熱率等指標是否規范，最穩妥的辦法就是用貼膜的玻璃擋住太陽或通過碘鎢燈照射，以臉或手直接測試隔熱效果。

三.防爆性能，一般的太陽紙或劣質防爆膜的材質與真正的防爆膜不同，其膜很薄很軟，缺乏足夠的韌性，不耐紫外線照射，易老化發脆，當遇到意外碰撞時不能起到防爆作用。正品的防爆膜在玻璃破裂後則會被膜粘牢而不至於飛濺傷人。當使用超強防爆膜時，如遇到歹徒用棍棒打擊車窗搶車或偷竊車內物品，還能提高抗擊的強度，使玻璃不易被擊碎，而特殊的防彈膜更可用於運鈔車的防彈玻璃和防暴警車上。

❷ 森巴特的太陽膜，據說含有貴金屬黃金成分是真是假

森巴特太陽膜系列中，V70，V90，V25，三個系列，均為進口雙銀工藝，含有微量的黃金,銀，鈦，鑥等眾多貴金屬成分，所以市場銷售價不低。

❸ 汽車貼太陽膜怎麼辨別質量

1、 看清晰度
優質車膜在夜間的清晰度應在6米以上，而劣質膜清晰度差，尤其在夜間，兩側及後風擋玻璃視線不清。
2、 手感
優質膜摸上去有厚實平滑感，而劣質膜手感薄而脆，容易起皺。
3、 顏色
優質膜的顏料是溶和在車膜中，經久耐用，不易變色，在粘貼過程中經刮板塗刮也不會脫色。而劣質膜的。顏色在膠中，撕開車膜的內襯後用指甲刮一下，顏色就掉了，膜片被指甲刮過的地方會變得透明。在貼膜過程中，當刮板膜時，有時顏色會自行脫落，這種膜當年就會變色，一年後褪色更為明顯。
4、 氣泡
當撕開車膜的塑料內襯後，再重新復合時，劣質膜會起泡，而優質膜復合後完好如初。
5、 隔熱性能
隔熱性是太陽膜的一個重要指標，而這一點僅憑肉眼和手感是很難鑒別的。可以通過一個簡單的測試方法。
簡單鑒別的小方法：
在一個碘鎢燈上放一塊貼著車膜的玻璃，用手感覺不到一絲熱的是優質膜，而立即有燙手感覺的則表明其隔熱性能有問題，是劣質膜。

❹ 汽車太陽膜原色膜金屬膜怎麼區分最好提及一下膠染膜

金屬膜分為純金屬和金屬染色膜兩種，你說的原色膜是純金屬膜，這種太陽膜特點是顏色單一，灰黑色為主，透光率t高，膠染膜，范圍較大，磁控濺射技術以外工藝生產都可稱為膠染膜，特點是透光率低，視線受影響，隔熱性能較低

❺ ABS塑料製品電鍍前對表面有什麼要求（表面缺陷以及對表面缺陷對應的處理方法）望高手指點

ABS塑料製品電鍍屬於非金屬電鍍，非金屬是電和熱的不良導體，因此，必須先使非金屬表面形成一層導體-金屬薄膜，作為底層金屬，方可進行電鍍。

金屬薄膜的形成方法很多，如化學鍍銅、化學鍍銀、銀粉漿高溫還原、真空鍍膜、環氧樹脂或油漆中加金屬粉噴塗表面等。不耐高溫的材料如塑料。

採用化學鍍銅或化學鍍銀較好，但結合力較差。由於非金屬材料和鍍層金屬間是機械結合，受熱時，膨脹系數相差較大，因此非金屬電鍍結合力較金屬電鍍結合力差。

(5)薄膜吸附貴金屬測試紫外擴展閱讀：

清潔(cleaning)：去除塑料成型過程中留下的污物及指紋，可用鹼劑洗凈再用酸浸中和及水洗干凈。

溶劑處理(solvent treatment)：使塑料表面能濕潤(wetting)以便與下一步驟的調節劑(conditioner)作用。

調節處理(conditioning)：將塑料表面粗化成內鎖的凹洞以使鍍層密著住不易剝離，也稱為化學粗化。

敏感化(sensitization)：將還原劑吸附在表面，常用(stannous chloride)或其它錫化合物，就是sn離子吸附於塑料表面具有還原性表面。

而ABS塑料因其結構上的優勢，不僅具有優良的綜合性能，易於加工成型，而且材料表面易於侵蝕而獲得較高的鍍層結合力，所以目前在電鍍中應用極為普遍。

隨著工業的迅速發展、塑料電鍍的應用日益廣泛，成為塑料產品中表面裝飾的重要手段之一.目前國內外已廣泛在ABS、聚丙烯、聚碸、聚碳酸酯、尼龍、酚醛玻璃纖維增強塑料、聚苯乙烯等塑料表面上進行電鍍，其中尤以ABS塑料電鍍應用最廣，電鍍效果最好.

❻ 汽車貼膜哪種好

汽車防爆隔熱膜市場比較亂，有上千個品牌產品，但真正性能好，叫得響的產品不多，防爆隔熱膜的功能是復合型的，比如防爆性能、抗紫外線性能、通透性能、隔熱性能、防眩光性能、增加隱私性能等，判斷膜適合度標准要看自己對膜功能的需求在哪裡。 如果追求高清晰度和高抗紫外線性能首選3M，如果追求高隔熱就選擇3M晶銳系列、量子鑽石70或威固的V系列，但如果追求高隔熱又介意阻擋信號性能和氧化性就選3M晶銳70，如果追求高隱私性也是首選3M（單向透視效果好），如果貼膜隨大溜，那3M、雷朋、強生是大品牌膜中市場佔有率前三的品牌。選擇雜牌產品全車貼膜的價格在1000元以下，正品雷朋膜全車1000元起步，正品強生膜全車1600元起步，正品龍膜全車1800元起步，正品3M膜全車2000元起步，貼膜有2000元上下的就足夠了。
選擇好品牌後更重要的是選擇施工的店面，基礎是選擇授權店，授權店保真性高，保障性更強的是規模授權店，保障性最強的是成熟的規模授權店，貼前選擇膜的時候最好多試幾款小樣比較比較，看看顏色搭配、通透性能、增加隱私要求等方面是不是適合自己 。
希望能解決您的問題。

❼ 貴金屬的分析方法有誰知道嗎

貴金屬從方法的角度上看，是需要通過富格林進行科學客觀的分析才能有正確的認知的。

❽ TiO2薄膜表面沉積貴金屬Ag能提高光催化性能的原因

這些內容可以看半導體物理，我試著說說，可能會有錯誤哈。

1. Ag沉積在TiO2表面就會形成肖特基勢壘嗎？
   

答：是的，一沉積之後就會形成肖特基勢壘，與材料的費米能級相關，與光照無關。

2. 肖特基勢壘是如何有利於載流子遷移的啊？
答：光生電子和光生空穴在遷移過程中，電子向金屬轉移的過程中會被肖特基勢壘所捕獲，這樣就可以使得光生空穴自由的在材料內移動。

3.肖特基勢壘和費米能級有什麼關系嗎？
答：費米能級不同導致了電子和空穴的遷移。一般金屬的功函數是大於半導體的功函數，換言之半導體的費米能級要高於金屬的費米能級，使得這兩種材料在耦合的過程中，電子由半導體遷移到金屬，直到兩者費米能級相同時為止。所以接觸後的空間電荷層，結果就是金屬端負電荷聚集，另一端正電荷聚集，從而形成「schottky」勢壘。

❾ 請問納米是一種材料還是一種材料被加工成了納米

納米技術
納米是長度單位，原稱毫微米，就是10的-9次方米（10億分之一米）。納米科學與技術，有時簡稱為納米技術，是研究結構尺寸在1至100納米范圍內材料的性質和應用。從具體的物質說來，人們往往用細如發絲來形容纖細的東西，其實人的頭發一般直徑為20-50微米，並不細。單個細菌用肉眼看不出來，用顯微鏡測出直徑為5微米，也不算細。極而言之，1納米大體上相當於4個原子的直徑。 納米技術包含下列四個主要方面：

⒈納米材料：當物質到納米尺度以後，大約是在1—100納米這個范圍空間，物質的性能就會發生突變，出現特殊性能。這種既具不同於原來組成的原子、分子，也不同於宏觀的物質的特殊性能構成的材料，即為納米材料。如果僅僅是尺度達到納米，而沒有特殊性能的材料，也不能叫納米材料。過去，人們只注意原子、分子或者宇宙空間，常常忽略這個中間領域，而這個領域實際上大量存在於自然界，只是以前沒有認識到這個尺度范圍的性能。第一個真正認識到它的性能並引用納米概念的是日本科學家，他們在20世紀70年代用蒸發法制備超微離子，並通過研究它的性能發現：一個導電、導熱的銅、銀導體做成納米尺度以後，它就失去原來的性質，表現出既不導電、也不導熱。磁性材料也是如此，象鐵鈷合金，把它做成大約20—30納米大小，磁疇就變成單磁疇，它的磁性要比原來高1000倍。80年代中期，人們就正式把這類材料命名為納米材料。

⒉納米動力學，主要是微機械和微電機，或總稱為微型電動機械繫統,用於有傳動機械的微型感測器和執行器、光纖通訊系統，特種電子設備、醫療和診斷儀器等.用的是一種類似於集成電器設計和製造的新工藝。特點是部件很小，刻蝕的深度往往要求數十至數百微米，而寬度誤差很小。這種工藝還可用於製作三相電動機，用於超快速離心機或陀螺儀等。在研究方面還要相應地檢測准原子尺度的微變形和微摩擦等。雖然它們目前尚未真正進入納米尺度，但有很大的潛在科學價值和經濟價值。

⒊納米生物學和納米葯物學，如在雲母表面用納米微粒度的膠體金固定dna的粒子，在二氧化硅表面的叉指形電極做生物分子間互作用的試驗，磷脂和脂肪酸雙層平面生物膜，dna的精細結構等。有了納米技術，還可用自組裝方法在細胞內放入零件或組件使構成新的材料。新的葯物，即使是微米粒子的細粉，也大約有半數不溶於水；但如粒子為納米尺度（即超微粒子），則可溶於水。

⒋納米電子學，包括基於量子效應的納米電子器件、納米結構的光/電性質、納米電子材料的表徵，以及原子操縱和原子組裝等。當前電子技術的趨勢要求器件和系統更小、更快、更冷,更小,是指響應速度要快。更冷是指單個器件的功耗要小。但是更小並非沒有限度。 納米技術是建設者的最後疆界，它的影響將是巨大的。

在1998年的四月，總統科學技術顧問，Neal Lane 博士評論到，如果有人問我哪個科學和工程領域將會對未來產生突破性的影響，我會說該個啟動計劃建立一個名為納米科技大挑戰機構，資助進行跨學科研究和教育的隊伍，包括為長遠目標而建立的中心和網路。一些潛在的可能實現的突破包括：

把整個美國國會圖書館的資料壓縮到一塊像方糖一樣大小的設備中，這通過提高單位表面儲存能力1000倍使大存儲電子設備儲存能力擴大到幾兆兆位元組的水平來實現。由自小到大的方法製造材料和產品，即從一個原子、一個分子開始製造它們。這種方法將節約原材料和降低污染。生產出比鋼強度大10倍，而重量只有其幾分之一的材料來製造各種更輕便，更省燃料的陸上、水上和航空用的交通工具。通過極小的晶體管和記憶晶元幾百萬倍的提高電腦速度和效率，使今天的奔騰?處理器已經顯得十分慢了。運用基因和葯物傳送納米級的mri對照劑來發現癌細胞或定位人體組織器官去除在水和空氣中最細微的污染物，得到更清潔的環境和可以飲用的水。提高太陽能電池能量效率兩倍。

什麼是納米科技？

納米科學技術是研究在千萬分之一米(10-8)到億分之一米(10-9米)內，原子、分子和其它類型物質的運動和變化的學問；同時在這一尺度范圍內對原子、分子進行操縱和加工又被稱為納米技術。

納米科技的研究內容

創造和制備優異性能的納米材料

設計、制備各種納米器件和裝置

探測和分析納米區域的性質和現象

什麼是納米？

納米是尺寸或大小的度量單位：

千米（103 ）→米→厘米→毫米→微米→納米（ 10-9）

4倍原子大小，萬分之一頭發粗細

納米科技研究什麼問題？

生物科學技術、信息科學技術、納米科學技術是下一世紀內科學技術發展的主流。生物科學技術中對基因的認識，產生了轉基因生物技術，可以治療頑症，也可以創造出自然界不存在的生物；信息科學技術使人們可以坐在家中便知天下大事，網際網路幾乎可以改變人們的生活方式。

納米科學是研究在千萬分之一米(10-8)到億分之一米(10-9米)內，原子、分子和其它類型物質的運動和變化的學問；同時在這一尺度范圍內對原子、分子進行操縱和加工又被稱為納米技術。

還原論：把物質的運動都還原到原子、分子這一層面上。原子論和量子力學取得了巨大的成功。有機合成；分子生物學；轉基因食品、克隆羊；原子光譜和激光；固體電子論和IC；幾何光學到光纖通訊。

宏觀世界上經典物理、化學、力學的巨大成就：計算機和網路、宇宙飛船、飛機、汽車、機器人等改變了人們的生活方式

科學技術有認識上的盲區或人類知識大廈上的裂縫。裂縫的一邊是以原子、分子為主體的微觀世界，另一岸是人類活動的宏觀世界。兩個世界之間不是直接而簡單的聯結，存在一個過渡區--納米世界。

例：分子合成 ≤1.5nm, →活體

微電子技術在0.2μm,

顯微外科只能連接大、小、微血管

≤ PM10和PM1.5的微粒

50年代，錢老「物理力學」是企圖連接兩個世界的前驅工作之一

圖中顯示用掃描隧道顯微鏡

的針尖在銅表面上搬運和操

縱48個原子，使它們排成圓

形。圓形上原子的某些電子

向外傳播，逐漸減小，同時

與相內傳播的電子相互干涉

形成干涉波。

幾十個原子、分子或成千個原子、分子「組合」在一起時，表現出既不同於單個原子、分子的性質，也不同於大塊物體的性質。這種「組合」被稱為「超分子」或「人工分子」。「超分子」性質，如熔點、磁性、電容性、導電性、發光性和染、顏色及水溶性有重大變化。當「超分子」繼續長大或以通常的方式聚集成大塊材料時，奇特的性質又會失去，像真是一些長不大的孩子。

在10nm尺度內，由數量不多的電子、原子或分子組成的體系中新規律的認識和如何操縱或組合及探測、應用它們---納米科學技術的主要問題。

原子和分子的微觀世界和宏觀世界的過渡區內的新現象和新規律

探測納米長度內物理、化學生物信息的新原理和新方法

新概念和新理論：強關聯、強場、快過程、少粒子的量子體系

應用

新科學還是老理論的翻版？

歷史悠久的新科學技術

西漢銅鏡和黑漆鼓

徽墨

漆器

催化劑材料

感光材料和彩色膠片

含有高嶺土顆粒的輪胎

WHY？不清楚

近十年，計算機和材料設計；探測技術STM、AFM、SNOM；IC和生命科學的推動；制備技術發展；理論的發展

高強度和高韌性、可自修復、有智能、可再生→新一代納米材料

為什麼小尺寸會有如此重要的影響？

表面效應

小尺寸效應

量子限域效應

研究目標和可能的應用

材料和制備：更輕、更強和可設計；長壽命和低維修費；以新原理和新結構在納米層次上構築特定性質的材料或自然界不存在的材料；生物材料和仿生材料；材料破壞過程中納米級損傷的診斷和修復；

微電子和計算機技術：2010年實現線條為100nm的晶元，納米技術的目標為：納米結構的微處理器，效率提高一百萬倍；10倍帶寬的高頻網路系統；兆兆比特的存儲器（提高1000倍）；集成納米感測器系統；

醫學與健康

快速、高效的基因團測序和基因診斷和基因治療技術；用葯的新方法和葯物'導彈'技術；耐用的人體友好的人工組織和器官；復明和復聰器件；疾病早期診斷的納米感測器系統

航天和航空

低能耗、抗輻照、高性能計算機；微型航天器用納米測試、控制和電子設備；抗熱障、耐磨損的納米結構塗層材料

環境和能源

發展綠色能源和環境處理技術，減少污染和恢復被破壞的環境；

孔徑為1nm的納孔材料作為催化劑的載體；MCM-41有序納孔材料（孔徑10-100nm）用來祛除污物；納米顆粒修飾的高分子材料

生物技術和農業

在納米尺度上，按照預定的大小、對稱性和排列來制備具有生物活性的蛋白質、核糖、核酸等。在納米材料和器件中植入生物材料產生具有生物功能和其他功能的綜合性能。，生物仿生化學葯品和生物可降解材料，動植物的基因改善和治療，測定DNA的基因晶元等

❿ 薄膜的應用參數

三氧化二釔
名稱：釔（Y）
三氧化二釔，（Y2O3）使用電子槍蒸鍍，該材料性能隨膜厚而變化，在500nm時折射率約為1.8，用作鋁保護膜極其受歡迎，特別相對於800-12000nm區域高入射角而言，可用作眼鏡保護膜，且24小時暴露於濕氣中，一般為顆粒狀和片狀。
透光范圍（nm) 折射率（N) 500nm 蒸發溫度（℃） 蒸發源 應用 蒸氣成分
250--8000 1.79 2300--2500 電子槍 防反膜，鋁保護膜 名稱：二氧化鈰（CeO2）
使用高密度的鎢舟皿（較早使用）蒸發，在200℃的基板上蒸著二氧化鈰，得到一個約為2.2的折射率，在大約3000nm有一吸收帶其折射率隨基板溫度的變化而發生顯著變化，在300℃基板500nm區域折射率為2.45，在波長短過400nm時有吸收，傳統方法蒸發缺乏緊密性，用氧離子助鍍可取得n=2.35（500nm）的低吸收性薄膜，一般為顆粒狀，還可用一增透膜和濾光片等。
透光范圍（nm) 折射率（N) 500nm 蒸發溫度（℃） 蒸發源 應用 雜氣排放量
400--16000 2.35 約2000 電子槍 防反膜， 多
名稱：氧化鎂（MgO)
必須使用電子槍蒸發因該材料升華，堅硬耐久且有良好的紫外線（UV）穿透性，250nm時n=1.86，190nm時n=2.06， 166nm時K值為0.1， n=2.65。可用作紫外線薄膜材料。MGO/MGF2膜堆從200nm---400nm區域透過性良好，但膜層被限制在60層以內（由於膜應力）500nm時環境基板上得到n=1.70。由於大氣CO2的干擾，MGO暴露表面形成一模糊的淺藍的散射表層，可成功使用傳統的MHL折射率3層AR膜（MgO/CeO2/MgF2）。 名稱：硫化鋅（ZnS)
折射率為2.35,400-13000nm的透光范圍，具有良好的應力和良好的環境耐久性， ZnS在高溫蒸著時極易升華，這樣在需要的膜層附著之前它先在基板上形成一無吸附性膜層，因此需要徹底清爐，並且在最高溫度下烘乾，花數小時才能把鋅的不良效果消除.HASS等人稱紫外線（UV）對ZNS有較大的影響，由於紫外線在大氣中導致15-20nm厚的硫化鋅膜層完全轉變成氧化鋅(ZNO）。
透光范圍（nm) 折射率（N) 550nm 蒸發溫度（℃） 蒸發源 應用 方式
400--14000 2.35 1000--1100 電子槍，鉭鉬舟 防反膜， 升華
應有：分光膜，冷光膜，裝飾膜，濾光片，高反膜，紅外膜. 名稱：二氧化鈦（TiO₂)
TiO₂由於它的高折射率和相對堅固性，人們喜歡把這種高折射率材料用於可見光和近紅外線區域,但是它本身又難以得到一個穩定的結果.TiO₂,Ti2O3. TiO,Ti，這些原材料氧-鈦原子的模擬比率分別為：2.0,1.67,1.5,1.0,0. 後發現比率為1.67的材料比較穩定並且大約在550nm生成一個重復性折射率為2.21的堅固的膜層，比率為2的材料第一層產生一個大約2.06的折射率，後面的膜層折射率接近於2.21.比率為1.0的材料需要7個膜層將折射率2.38降到2.21.這幾種膜料都無吸收性，幾乎每一個TiO2蒸著遵循一個原則：在可使用的光譜區內取得可以忽略的 吸收性，這樣可以降低氧氣壓力的限制以及溫度和蒸著速度的限制.TiO2需要使用IAD助鍍，氧氣輸入口在擋板下面.
Ti3O5比其它類型的氧化物貴一些，可是很多人認為這種材料不穩定性的風險要小一些，PULKER等人指出，最後的折射率與無吸收性是隨著氧氣壓力和蒸著溫度而改變的，基板溫度高則得到高的折射率.例如，基板板溫度為400℃時在550納米波長得到的折射率為2.63，可是由於別的原因，高溫蒸著通常是不受歡迎的，而離子助鍍已成為一個普遍採用的方法其在低溫甚至在室溫時就可以得到比較高的折射，通常需要提供足夠的氧氣以避免（因為有吸收則降低透過率），但是可能也需要降低吸收而增大鐳射損壞臨界值（LDT).TiO2的折射率與真空度和蒸發速度有很大的關系，但是經過充分預熔和IAD助鍍可以解決這一難題，所以在可見光和近紅外線光譜中，TiO2很受到人們的歡迎. 在IAD助鍍TiO2時，使用屏蔽柵式離子源蒸發則需要200EV，而用無屏蔽柵式離子源蒸發時則需要333EV或者更少一些，在那裡平均能量估計大約是驅動電壓的60%，如果離子能量超過以上數值，TiO2將有吸收.而SiO2有電子槍蒸發可以提供600EV碰撞（離子輻射）能量而沒有什麼不良效應. TiO2/SiO2製程中都使用300EV的驅動電壓，目的是在兩種材料中都使用無柵極離子源，這樣避免每一層都改變驅動電壓，驅動電壓高低的選擇取決於TiO2所允許的范圍，而蒸著速度的高低取決於完全緻密且無吸收膜所允許之范圍. TiO₂用於防反膜，分光膜，冷光膜，濾光片，高反膜,眼鏡膜，熱反射鏡等，黑色顆粒狀和白色片狀，熔點：1175℃
透光范圍（nm) 折射率（N) 500nm 蒸發溫度（℃） 蒸發源 應用 雜氣排放量
400--12000 2.35 2000-2200 電子槍，防反膜，增透 多
TiO2用於防反膜，裝飾膜，濾光片，高反膜
Ti2O3用於防反膜 濾光片 高反膜 眼鏡膜 名稱：氟化釷（ThF4）
260-12000nm以上的光譜區域，是一種優秀的低折射率材料，然而存在放射性，在可視光譜區N從 1.52降到1.38（1000nm區域）在短波長趨近於1.6，蒸發溫度比MGF2低一些，通常使用帶有凹罩的舟皿以免THF4良性顆粒火星飛濺出去，而且形成的薄膜似乎比MGF2薄膜更加堅固.該膜在IR光譜區300NM小水帶幾乎沒有吸收，這意味著有望得到一個低的光譜移位以及更大的整體堅固性，在8000到12000NM完全沒有材料可以替代. 名稱： 二氧化硅（SiO2）
經驗告訴我們，氧離子助鍍（IAD)SiO將是SiO2薄膜可再現性問題的一個解決方法，並且能在生產環境中以一個可以接受的高速度蒸著薄膜.
SiO2薄膜如果壓力過大，薄膜將有氣孔並且易碎，相反壓力過低薄膜將有吸收並且折射率變大，需要充分提供高能離子或氧離子以便得到合乎需要的速度和特性，必要是需要氧氣和氬氣混合充氣，但是這是熱鍍的情況，冷鍍時這種性況不存在.
SiO2用於防反膜，冷光膜，濾光片，絕緣膜，眼鏡膜，紫外膜.
透光范圍（nm) 折射率（N) 550nm 蒸發溫度（℃） 蒸發源 應用 雜氣排放量
200--2000 1.46 1800-2200 電子槍，防反膜，增透 少，升華
無色顆粒狀，折射率穩定，放氣量少,和OS-10等高折射率材料組合制備截止膜，濾光片等. 名稱： 一氧化硅（SiO)
透光范圍（nm) 折射率（N) 550nm 蒸發溫度（℃） 蒸發源 應用 雜氣排放量
600--8000 1.55 at550nm1.8at1000nm1.6at7000nm 1200-1600 電子槍，鉭鉬舟 冷光膜裝飾膜保護膜，升華
製程特性：棕褐色粉狀或細塊狀.
熔點較低，可用鉬舟或鈦舟蒸發，但需要加蓋舟因為此種材料受熱直接升華.
使用電子槍加熱時不能將電子束直接打在材料上而採用間接加熱法.
制備塑料鏡片時，一般第一層是SiO，可以增加膜的附著力.
名稱：OH-5(TiO2+ZrO2）
透光范圍（nm) 折射率（N)
550nm 蒸發溫度（℃） 蒸發源 應用 雜氣排放量
300--8000 2.1 約2400 電子槍，
增透 一般
蒸氣成分為：ZrO,O2,TiO,TiO2
呈褐色塊狀或柱狀
尼康公司開發之專門加TS--ェート系列抗反射材料，折射率受真空度，蒸發速率，氧氣壓力的影響很大，蒸鍍時不加氧或加氧不充分時，制備薄膜會產生吸收現象，但是我們在實際應用時沒有加氧也比較好用. 名稱：二氧化鋯（ZrO2）
ZrO2具有堅硬，結實及不均勻之特性，該薄膜有是需要烘乾以便除去它的吸收，其材料的純度及為重要，純度不夠薄膜通常缺乏整體緻密性，它得益於適當使用IAD來增大它的折射率到疏鬆值以便克服它的不均勻性.純度達到99.99%基本上解決了以上的問題.SAINTY等人成功地使用ZRO2作為鋁膜和銀膜的保護膜，該膜層（指ZRO2）是在室溫基板上使用700EV氬離子助鍍而得到的.一般為白色柱狀或塊狀，蒸發分子為ZRO,O2.
透光范圍（nm) 折射率（N)
550nm 蒸發溫度（℃） 蒸發源 應用 雜氣排放量
320-7000 2.05
⒉0AT2000 約2500 電子槍，
增透，加硬膜
眼鏡膜保護膜 一般
製程特性：白色顆粒，柱狀，或塊狀，粉狀材料使用鎢舟或鉬舟.顆粒狀，粉狀材料排雜氣量較多，柱狀或塊狀較少.
真空度小於2*10-5Torr條件下蒸發可得到較穩定的折射率，真空度大於5*10-5Torr時蒸發，薄膜折射率逐漸變小。
蒸鍍時加入一定壓力的氧氣可以改善其材料之不均勻性。 名稱：氟化鎂（MgF2）
MGF2作為1/4波厚抗反射膜普遍使用來作玻璃光學薄膜，它難以或者相對難以溶解，而且有大約120NM真實 紫外線到大約7000nm的中部紅外線區域里透過性能良好。OLSEN，MCBRIDE等人指出從至少200NM到6000NM的區域里，2.75MM厚的單晶體MGF2是透明的，接著波長越長吸收性開始增大，在10000NM透過率降到大約2%，雖然在8000-12000NM區域作為厚膜具有較大的吸收性，但是可以在其頂部合用一薄膜作為保護層.
不使用IAD助鍍，其膜的硬度，耐久性及密度隨基板的溫度的改變而改變的.在室溫中蒸鍍，MGF2膜層通常被手指擦傷，具有比較高的濕度變化.在真空中大約N=1.32，堆積密度82%，使用300（℃）蒸鍍，其堆積密度將達到98%,N=1.39它的膜層能通過消除裝置的擦傷測試並且溫度變化低，在室溫與300（℃）之間，折射率與密度的變化幾乎成正比例的. 在玻璃上冷鍍MGF2加以IAD助鍍可以得到300（℃）同等的薄膜，但是125-150EV能量蒸鍍可是最適合的.在塑料上使用IAD蒸鍍幾乎強制獲得合理的附著力與硬度.經驗是MGF2不能與離子碰撞過於劇烈.
透光范圍（nm) 折射率（N)
550nm 蒸發溫度（℃） 蒸發源 應用 雜氣排放量
2000-7000 1.38
⒈35AT200 約1100 電子槍，
鉬鉭鎢舟 增透，加硬膜
眼鏡膜 少，MGF2
（MGF2）2
製程特性：折射率穩定，真空度和速率對其變化影響小
預熔不充分或蒸發電流過大易產生飛濺，造成鏡片木不良.在打開檔板後蒸發電流不要隨意加減，易飛濺.基片須加熱到高的張應力
白色顆粒狀，常用於抗反射膜，易吸潮.購買時應考慮其純度.
三氧化二鋁
名稱：三氧化二鋁（Al2O3）
普遍用於中間材料，該材料有很好的堆積密度並且在200-7000NM區域的透明帶，該製程是否需要加氧氣以試驗分析來確定，提高基板溫度可提高其折射率，在鍍膜程式不可理更改情況下，以調整蒸發速率和真空度來提高其折射率.
透光范圍（nm) 折射率（N)
550nm 蒸發溫度（℃） 蒸發源 應用 雜氣排放量
200-7000 1.63 2050 電子槍，增透，保護膜
眼鏡膜 一般，Al,O,
O2,AlO,Al2O,(AlO)2
製程特性：白色顆粒狀或塊狀，結晶顆粒狀等.
非結晶狀材料雜氣排放量高，結晶狀材料相對較少.
折射率受蒸著真空度和蒸發速率影響較大，真空不好即速率低則膜折射率變低；真空度好蒸發速率較快時，膜折射率相對增大，接近1.62
Al2O3蒸發時會產生少量的Al分子造成膜吸收現象，加入適當的O2時，可避免其吸收產生.但是加氧氣要注意不要影響到它的蒸發速率否則改變了它的折射率.
名稱：OS-10(TiO2+ZrO2）
透光范圍（nm) 折射率（N)
550nm 蒸發溫度（℃） 蒸發源 應用 雜氣排放量
250-7000 2.3 2050 電子槍，增透，濾光片，截止膜
一般，
製程特性：棕褐色顆粒狀. 雜氣排放較大，預熔不充分或真空度小於5*10-5Torr時蒸發，其折射率會比2.3小，幫必須充分預熔且蒸發真空度希望大於上述這數值.蒸發此種材料時宜控制衡定的蒸發速率，材料可添加重復使用，為減少雜氣排放量，盡量避免全數使用新材料.
蒸氣中的Ti和TiO和O2反應生成TiO2
常用於制備抗反射膜和SiO2疊加制備各種規格的截止膜系和濾光片等. 名稱：鍺（Ge)
稀有金屬，無毒無放射性，主要用於半導體工業，塑料工業，紅外光學器件，航天工業，光纖通訊等.透光范圍2000NM---14000NM,n=4甚至更大，937（℃）時熔化並且在電子槍中形成一種液體，然後在1400（℃）輕易蒸發.用電子槍蒸發時它的密度比整體堆積密度低，而用離子助鍍或者鐳射蒸鍍可以得到接近於鬆散密度.在鍺基板上與THF4制備幾十層的8000---12000NM帶通濾光片，如果容室溫度太高吸收將有重大變化，在240--280（℃）范圍內，在從非晶體到晶體轉變的過程中GE有一個臨界點. 名稱：鍺化鋅（ZnGe)
疏散的鍺化鋅具有一個比其相對較高的折射率，在500NM時N=2.6，在可見光譜區以及12000-14000NM區域具有較少的吸收性並且疏散的鍺化鋅沒有其材質那麼硬.使用鉭舟將其蒸發到150℃的基板上制備SI/ZnGe及ZnGe/LaF3膜層試圖獲到長波長IR漸低折射率的光學濾鏡. 名稱：氧化鉿（HfO2）
在150℃的基板上有用電子槍蒸著，折射率在2.0左右，用氧離子助鍍可能取和得2.05-2.1穩定的折射率，在8000-12000NM區HFO2用作鋁保護膜外層好過SIO2
透光范圍（nm) 折射率（N)
550nm 蒸發溫度（℃） 蒸發源 應用 雜氣排放量
230-7000 2.0 2350 電子槍，增透，高反膜
紫外膜 少
無色圓盤狀或灰色顆粒狀和片狀. 名稱：碲化鉛（PbTe）
是一種具有高折射率的IR材料，作為薄膜材料在3800---40000NM是透明的，在紅外區N=5.1-5.5，該材料升華，基板板溫度250℃是有益的，健康預防是必要的，在高達40000NM時使用效果很好，別的材料常常用在超過普通的14000NM紅外線邊緣. 名稱：鋁氟化物（AlF3）
可以在鉬中升華， 在190-1000NM區域有透過性，N=1.38，有些人聲稱已用在EⅪMER激光鏡，它無吸收性，在250-1000NM區域透過性良好.ALF3是冰晶石，是NaAlF4的一個組成部分，且多年來一直在使用，但是在未加以保護層時其耐久性還未為人知.
鈰（Ce）氟化物
名稱：鈰（Ce）氟化物
Hass等人研究GeF3，他們使用高密度的鎢舟蒸發發現在500NM時N=1.63，並且機械強度和化學強度令人滿意，他們指出在234NM和248NM的吸收最大，而在波長大過300NM時吸收可以忽略.FUJIWARA用鉬舟蒸發CEF3和CEO2混合物，得到一個1.60---2.13的合乎需要的具有合理重復性的折射率，他指出該材料的機械強度和化學強度都令人滿意.
透光范圍（nm) 折射率（N)
500nm 蒸發溫度（℃） 蒸發源 應用 雜氣排放量
300-5000 1.63 約1500 電子槍，
鉬鉭鎢舟 增透，
眼鏡 少 名稱：氟化鈣（CaF2）
CaF2是Heavens提出來的，它可以在10-4以上的壓力下蒸發獲得一個約為1.23---1.28的折射率。可是他說最終的膜層不那麼令人滿意，在室溫下蒸著氟化鈣其堆積密度大約為0.57，這與Ennos給出的疏散折射率1.435相吻合,這說明該材料不耐用並容易隨溫度變化而變化.原有的高拉應力隨膜厚增大而降低，膜厚增大導致大量的可見光散射.可以用鎢鉭舟鉬舟蒸發而且會升華，在紅外線中其穿透性超過12000nm，它沒有完全的緻密性似乎是其利用受到限制的原因，隨著IAD蒸著氟化物條件的改善這種材料的使用前景更為廣闊. 名稱：氟化鋇（BaF2）
與氟化鈣具有相似的物理特性，在室溫下蒸鍍氟化鋇，使用較低的蒸著速度時材料的堆積密度為0.66，並且密度變化與蒸著速度增大幾乎成正比，在速度為20NM/S堆積密度高達0.83，它的局限性又是它缺乏完全緻密性.透過性在高溫時移到更長的波長，所以它只能用在紅外膜.
透光范圍（nm) 折射率（N)
500nm 蒸發溫度（℃） 蒸發源 應用 雜氣排放量
250-15000 1.48 約1500 電子槍，
鉬鉭鎢舟 紅外膜 少 名稱：氟化鉛（PbF2）
氟化鉛在UV中可用作高折射率材料，在300nm時N=1.998，該材料與鉬鉭，鎢舟接觸時折射率將降低，因此需要用鉑或陶瓷皿.Ennos指出氟化鉛具有相對較低的應力，開始是壓力，隨著膜厚度的增加張力明顯增大，但這與蒸著速度無關.
透光范圍（nm) 折射率（N)
500nm 蒸發溫度（℃） 蒸發源 應用 雜氣排放量
250-17000 1.75 700--1000 電子槍，
鉑舟，坩鍋 紅外膜 少 名稱：鉻（Cr)
鉻有時用在分光鏡上並且通常用作膠質層來增強附著力，膠質層可能在5-50NM的范圍內，但在鋁鏡膜導下面，30NM是增強附著力的有效值.顆粒狀可用鎢舟蒸發而塊狀宜用電子槍來蒸發，該材料升華，但是表面氧化物可以防止它蒸發/升華，可以全用鉻電鍍鎢絲.可以用鉻作為膠質層對金鏡化合物進行韌性處理，也可在塑料上使用鉻作為膠質層.也可使用一個螺旋狀的鎢絲蒸發.它應該是所有材料中具有最高拉應力的材料.
透光范圍（nm) 折射率（N)
500nm 蒸發溫度（℃） 蒸發源 應用 雜氣排放量
⒈5 1300--1400 電子槍，
鉑舟，鎢舟 吸收膜分光膜導電膜加硬膜 名稱：鋁（Al)
不管是裝飾膜還是專業膜都是普遍用於蒸發/濺鍍鏡膜，常用鎢絲來蒸發鋁絲，在紫外域中它是普通金屬中反射性能最好的一種,在紅外域中不用Cu,Ag,Au.鋁原先有一個比較高的拉應力，在不透明厚度時，該 拉應力降低到一個小的壓應力，並且蒸著以後拉應力進一步降低.其膜的有效厚度為50NM以上. 名稱：銀（Ag)
如果蒸著速度足夠快並且基板溫度不很高時，銀和鋁一樣具有良好的反射性，這是在高速低溫下大量集結的結果，這一集結同時導致更大的吸收.銀通常不浸濕鎢絲，但是往往形成具有高表面張力的液滴，它可以用一高緊密性的螺旋式鎢絲來蒸發，從而避免液滴下掉.有人先在一個V型鎢絲上繞幾圈鉑絲接著繞上銀絲，銀絲可以浸濕鉑絲但沒有浸濕鎢絲. 名稱：金（Au)
金在紅外線1000nm波長以上是已知材料中具有最高反射性的材料，作為一種貴重金屬，它具有較強的化學堅硬性，由於它的可塑性因而抗擦傷性能低，AU可用鎢或氮化硼舟皿或者電子槍來蒸發（不能與鉑舟蒸發，它與鉑很快合金）.金對玻璃表面的附著力低，因而通常使用一層鉻作為膠質層.也可用氧離子助鍍使金的附著力得到上百倍的改善，在不透明性達到即中止IAD，並且最後的薄膜中不含有氧，摻氧將降低薄膜的反射率.
銦---錫氧化物
名稱：銦---錫氧化物和導電材料
銦-錫氧化物（ITO）和In3O5-SnO2有相對良好的導電性能和可見光穿性.這樣的薄膜在數據顯示屏和抗熱防霜裝置等方面已有很大原需求.在建築上可用作擇光窗和可控穿透窗.ITO n=1.85 at500nm熔化溫度約1450℃.
名稱：鋁（Al)
不管是裝飾膜還是專業膜都是普遍用於蒸發/濺鍍鏡膜，常用鎢絲來蒸發鋁絲，在紫外域中它是普通金屬中反射性能最好的一種，在紅外域中不用Cu,Ag,Au.鋁原先有一個比較高的拉應力，在不透明厚度時，該 拉應力降低到一個小的壓應力，並且蒸著以後拉應力進一步降低.其膜的有效厚度為50NM以上.
名稱：H1
透光范圍(nm) 折射率（N)
500nm 蒸發溫度（℃） 蒸發源 應用 雜氣排放量
360--7000 2.1 2200-2400 電子槍，增透，眼鏡膜 少
名稱：H2
透光范圍（nm) 折射率（N)
500nm 蒸發溫度（℃） 蒸發源 應用 雜氣排放量
400-5000 2.1 2200 電子槍，增透，眼鏡膜 少
名稱：H4
透光范圍（nm) 折射率（N)
500nm 蒸發溫度（℃） 蒸發源 應用 雜氣排放量
360--7000 2.1 2200-2400 電子槍，增透，眼鏡膜濾光片 少
名稱：M1
透光范圍（nm) 折射率（N)
500nm 蒸發溫度（℃） 蒸發源 應用 雜氣排放量
300--9000 1.7 2200-2400 電子槍，增透，偏光膜 少
名稱：M2
透光范圍（nm) 折射率（N)
500nm 蒸發溫度（℃） 蒸發源 應用 雜氣排放量
210--10000 1.7 2100 電子槍，增透，偏光膜分光膜 少
名稱：M3
透光范圍（nm) 折射率（N)
500nm 蒸發溫度（℃） 蒸發源 應用 雜氣排放量
220--10000 1.8 2100 電子槍，增透，偏光膜 少
名稱：H5
透光范圍（nm) 折射率（N)
500nm 蒸發溫度（℃） 蒸發源 應用 雜氣排放量
210--10000 2.2 2100 電子槍,增透，濾光片 少
名稱：氧化鉭（Ta2O5）
透光范圍（nm) 折射率（N)
500nm 蒸發溫度（℃） 蒸發源 應用 雜氣排放量
400--000 2.1 1900--2200 電子槍，增透，干涉濾光片 少
名稱：WR--1
透光范圍（nm) 折射率（N)
500nm 蒸發溫度（℃） 蒸發源 應用 雜氣排放量
380--700 約1.5 360--450 鉬舟，頂層膜眼鏡膜 少
名稱：WR--2
透光范圍（nm) 折射率（N)
500nm 蒸發溫度（℃） 蒸發源 應用 雜氣排放量
380--700 約1.5 360--450 電子槍，鉬舟 頂層膜防水膜眼鏡膜 少
名稱：WR--3
透光范圍（nm) 折射率（N)
500nm 蒸發溫度（℃） 蒸發源 應用 雜氣排放量
380--700 約1.3 350--500 鉬舟 頂層膜保護膜眼鏡膜 少
名稱：L--5
透光范圍（nm) 折射率（N)
500nm 蒸發溫度（℃） 蒸發源 應用 雜氣排放量
300--7000 1.48 約2000 電子槍，增透，眼鏡膜 少
名稱：錐冰晶石（Na5AL3F14）
透光范圍（nm) 折射率（N)
500nm 蒸發溫度（℃） 蒸發源 應用 雜氣排放量
250--14000 約1.33 800--1200 鉬舟鉭舟 濾光片，紫外膜 少
冰晶石（Na3ALF6）
默克公司研製的一系列的混合膜料
H1 高折射率：2.1---2.15 適用於防反膜和眼鏡膜
H2 高折射率： 2.1-2.15 適用於防反膜和眼鏡膜
H4 高折射率： 2.1-2.15 適用於防反膜和濾光片膜眼鏡膜
M1 中折射率： 1.65-1.7 適用於防反膜和偏光膜
⒈ H1,H2,H4可用作來生產高折射率的膜層，在250℃的基底上，2.1-2.15的折射率共有同次性.M1可用來生產中折射率的膜層.H1,H4和M1也能鍍在未加熱的基底上，折射率會下降.
⒉ H1在可見光到紫外波段內有相當高的透過率，在360NM左右有吸收，同ZRO2一樣無法從溶解狀態下被蒸發較為均勻的膜層.
⒊ H2在可見光波段內有很高的透過率，但在380NM時有截止吸收，這意味著鍍膜條件不理想時1/2光學厚度的存在吸收.H2優點在於它能從溶解狀態下被蒸發，因此有良好的同次性和均勻的膜厚.
⒋ H4在可見光波段內有很高的透過率，象H1 一樣在360NM左右有吸收，它也能從溶解狀態下被子蒸發，具有良好的同次性.
⒌ M1在從近紅外到近紫外的波段內有很好的透過率，300NM時有吸收，它也能從溶解的狀態下被子蒸發，具有良好的同次性和物質，適合於是高折射率的基底上鍍增透膜.
在塑料基底上鍍膜因為無法加熱基底，所以在膜料的選擇上倍加小心，以確保它能在低溫下形成穩定膜層，由於溫度偏低折射率也隨之降低，相應的膜層設計也應改變.
MGF2不能在低溫下被子蒸鍍，因為只有200℃以上溫度時它才能形成穩定的薄膜，因此只能選擇氧化物來蒸鍍，有些人用IAD助鍍強制性得到一個近乎堅固的膜
部分膜料在塑料基底上的折射率：
SiO2 Al2O3 M1 Y2O3 ZrO2 H1 H4 TiO2
⒈45 1.62 1.65 1.8 1.9 1.95 1.95 1.9--2
H2不能在低溫下被蒸鍍，因為它在藍光波段有吸收。
M1， H4， SiO2可以組成經典的AR膜系
最常用的塑料基底是：
CR-39：N=1.5
PMMA: N=1.48-1.5
聚碳酸脂： N=1.59