上市公司生產光刻機

A. 光刻機是晶元製造的關鍵，現在在中國有哪些企業能夠研製光刻機

光刻機是晶元製造的關鍵設備，我國投入研發的公司有微電子裝備(集團)股份，長春光機所，中國科學院等都在研發，合肥芯碩半導體有限公司，先騰光電科技有限公司，先騰光電科技有限公司， 合肥芯碩半導體有限公司都有研發以及製造。而且有了一定的科研成果，但是目前我國高端晶元的製造卻主要依賴荷蘭進口的光刻機。我國光刻機在不斷發展但是與國際三巨頭尼康佳能（中高端光刻機市場已基本沒落）ASML（中高端市場近乎壟斷）比差距很大。

合肥芯碩半導體有限公司成立與2006年4月,是國內首家半導體直寫光刻設備製造商。該公司自主研發的ATD4000,已經實現最高200nm的量產。

無錫影速成立與2015年1月,影速公司是由中科院微電子研究所聯合業內資深技術團隊、產業基金共同發起成立的專業微電子裝備高科技企業。影速公司已成功研製用於半導體領域的激光直寫/製版光刻設備、國際首台雙檯面高速激光直接成像連線設備(LDI),已經實現最高200nm的量產。無錫影速成立與2015年1月,影速公司是由中科院微電子研究所聯合業內資深技術團隊、產業基金共同發起成立的專業微電子裝備高科技企業。影速公司已成功研製用於半導體領域的激光直寫/製版光刻設備、國際首台雙檯面高速激光直接成像連線設備(LDI),已經實現最高200nm的量產。

先騰光電成立於2013年4月,已經實現最高200nm的量產,在2014國際半導體設備及材料展覽會上,先騰光電亮出了完全自主知識產權的LED光刻機生產技術,震驚四座。

B. 中國有大型國企研發製造光刻機嗎

光刻機是晶元製造的核心設備之一，按照用途可以分為好幾種：有用於生產晶元的光刻機；有用於封裝的光刻機；還有用於LED製造領域的投影光刻機。用於生產晶元的光刻機是中國在半導體設備製造上最大的短板。

光刻機被稱為「人類最精密復雜的機器」，該領域的龍頭老大是荷蘭ASML，並已經壟斷了高端光刻機市場。荷蘭ASML公司EUV光刻機售價高達1億美元，而且只有ASML能夠生產。

相比之下，中國最好的光刻機廠商上海微電子裝備有限公司（SMEE）已經量產的光刻機中，性能最好的SSA600/20工藝只能達到90nm，相當於2004年上市的奔騰四CPU的水準。而國外的先進水平已經達到了7納米，正因如此，國內晶圓廠所需的高端光刻機完全依賴進口。

C. 中國生產28納米晶元和光刻機的上市公司有哪些

摘要 您好，您的問題我已經看到了，正在整理答案，請稍等一會兒哦~

D. 光刻機生產廠家是

光刻機生產廠家是ASML。

自1984年以來，ASML的光刻解決方案便是半導體行業的創新領導者，在如此小的規模上實現了巨大的飛躍。硬體與軟體相結合，為在硅上批量生產圖案提供了一種整體方法。

在世界16個國家和地區有60阿斯麥公司的主要產品是用於生產大規模集成電路的核心設備光刻機。在世界同類產品中有90％的市佔率，在14納米製程以下有100％的市佔率。

(4)上市公司生產光刻機擴展閱讀：

ASML為半導體生產商提供光刻機及相關服務，TWINSCAN系列是目前世界上精度最高，生產效率最高，應用最為廣泛的高端光刻機型。

全球絕大多數半導體生產廠商，都向ASML采購TWINSCAN機型，比如英特爾（Intel）、三星（Samsung）、海力士（Hynix）、台積電（TSMC）、中芯國際（SMIC）等。

E. 涉足物聯網+晶元+光刻機是哪個上市公司

F. 世界上有企業能做生產晶元的光刻機嗎這項技術有多難

世界上製造光刻機技術最為先進的應該是荷蘭，荷蘭現在疫情鬧得挺嚴重的，俄羅斯曾經給出一個神助攻督促，或者說給荷蘭建議用荷蘭的供貨機換我們的口罩，因為現在醫療資源非常緊張，尤其是口罩和防護服。研究這個東西，當然不是個體企業的資金所能夠支持的，有很多世界上能夠製造高級光客機，也就是那些頂尖技術的光客機的企業都是有國家支持的，有他們的國家級撥給他們相應的資金，政策，讓他們有更多的研發空間，能夠去不斷提高自主的創新能力，在世界范圍內佔有一席之地，對於提升綜合國力，提升國家地位有著非常大的作用。

G. 生產光刻機有哪些上市公司

生產光刻機上市公司有ABM、上海微電子裝備有限公司、佳能、尼康、荷蘭ASML公司.

1、ABM

ABM公司成立於1986年，總部位於美國矽谷San Jose。主要經營光罩對准曝光機（光刻機），單獨曝光系統,光強儀/探針。公司的主要市場在美國和亞洲。

2、上海微電子裝備有限公司

上海微電子裝備有限公司坐落於張江高科技園區內，鄰近國家集成電路產業基地、國家半導體照明產業基地和國家863信息安全成果產業化（東部）基地等多個國家級基地。

公司成立於2002年，主要致力於大規模工業生產的投影光刻機研發、生產、銷售與服務，公司產品可廣泛應用於IC製造與先進封裝、MEMS、TSV/3D、TFT-OLED等製造領域。

3、佳能

佳能的產品系列共分布於三大領域：個人產品、辦公設備和工業設備，主要產品包括照相機及鏡頭、數碼相機、列印機、復印機、傳真機、掃描儀、廣播設備、醫療器材及半導體生產設備等。

4、尼康

尼康作為世界上僅有的三家能夠製造商用光刻機的公司，似乎在這個領域不被許多普通人知道，許多人只知道尼康的相機做的好，卻不知道尼康光刻機同樣享譽全球。

5、荷蘭ASML公司

這是一家總部設在荷蘭艾恩德霍芬（Veldhoven）的全球最大的半導體設備製造商之一，向全球復雜集成電路生產企業提供領先的綜合性關鍵設備。ASML的股票分別在阿姆斯特丹及紐約上市。

參考資料來源：網路-荷蘭ASML公司

參考資料來源：網路-尼康

參考資料來源：網路-佳能

參考資料來源：網路-上海微電子裝備有限公司

參考資料來源：網路-ABM

H. 光刻機唯一上市公司

光刻機唯一上市公司是張江高科公司，光刻機（Mask Aligner）又名：掩模對准曝光機，曝光系統，光刻系統等，是製造晶元的核心裝備。它採用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印製到矽片上。
光刻機的品牌眾多，根據採用不同技術路線的可以歸納成如下幾類：
1、高端的投影式光刻機可分為步進投影和掃描投影光刻機兩種，解析度通常七納米至幾微米之間，高端光刻機號稱世界上最精密的儀器，世界上已有1.2億美金一台的光刻機。高端光刻機堪稱現代光學工業之花，其製造難度之大，全世界只有少數幾家公司能夠製造。國外品牌主要以荷蘭ASML（鏡頭來自德國），日本Nikon（intel曾經購買過Nikon的高端光刻機）和日本Canon三大品牌為主。
2、位於我國上海的SMEE已研製出具有自主知識產權的投影式中端光刻機，形成產品系列初步實現海內外銷售。正在進行其他各系列產品的研發製作工作。
3、生產線和研發用的低端光刻機為接近、接觸式光刻機，解析度通常在數微米以上。主要有德國SUSS、美國MYCRO NXQ4006、以及中國品牌。
拓展資料：
光刻機的主要性能指標有：支持基片的尺寸范圍，解析度、對准精度、曝光方式、光源波長、光強均勻性、生產效率等。
1、解析度是對光刻工藝加工可以達到的最細線條精度的一種描述方式。光刻的解析度受受光源衍射的限制，所以與光源、光刻系統、光刻膠和工藝等各方面的限制。
2、對准精度是在多層曝光時層間圖案的定位精度。
3、曝光方式分為接觸接近式、投影式和直寫式。
4、曝光光源波長分為紫外、深紫外和極紫外區域，光源有汞燈，準分子激光器等。

I. 哪一光刻機巨頭，占據了國內的80%市場

上海微電子是大陸光刻設備龍頭企業，在國內中端先進封裝光刻機和LED光刻機市場，獨佔80%的市場份額。