薄膜吸附贵金属测试紫外

❶ 如何识别汽车改色贴膜的好坏优劣

一.透光度与清晰度，这是车用膜中关乎行车安全最重要的性能，一些太阳纸(俗称茶色纸)虽然颜色很深，但透光度却极低，贴上膜后黑呼呼一片，必须在侧窗膜上挖一个孔来看倒后镜，这对行车安全是相当危险的。而好的汽车防爆隔热膜，不论颜色深浅，清晰度都非常高，不仅能在夜间行车时把后面来车大灯照射在倒后镜的强烈眩光反射减弱，就是在雨夜行车、倒车或调头也同样视线良好。所以，用户在贴膜时，一般都不要选择透光度太低的膜。

二.隔热性能，隔热率是体现汽车防爆膜隔热性能的重要指标，目前市场上的琥珀光学、龙膜、AC德科、雷朋等防爆膜，隔热率一般在50%以上，高透光、高隔热，既可提高行车的舒适性，又可降低空调负荷达到节油的目的。而之相反的很多膜，却仅有透光度没有隔热率，甚至有些干脆什么指标也没有。所以消费者在贴膜时除了要看隔热率等指标是否规范，最稳妥的办法就是用贴膜的玻璃挡住太阳或通过碘钨灯照射，以脸或手直接测试隔热效果。

三.防爆性能，一般的太阳纸或劣质防爆膜的材质与真正的防爆膜不同，其膜很薄很软，缺乏足够的韧性，不耐紫外线照射，易老化发脆，当遇到意外碰撞时不能起到防爆作用。正品的防爆膜在玻璃破裂后则会被膜粘牢而不至于飞溅伤人。当使用超强防爆膜时，如遇到歹徒用棍棒打击车窗抢车或偷窃车内物品，还能提高抗击的强度，使玻璃不易被击碎，而特殊的防弹膜更可用于运钞车的防弹玻璃和防暴警车上。

❷ 森巴特的太阳膜，据说含有贵金属黄金成分是真是假

森巴特太阳膜系列中，V70，V90，V25，三个系列，均为进口双银工艺，含有微量的黄金,银，钛，镥等众多贵金属成分，所以市场销售价不低。

❸ 汽车贴太阳膜怎么辨别质量

1、 看清晰度
优质车膜在夜间的清晰度应在6米以上，而劣质膜清晰度差，尤其在夜间，两侧及后风挡玻璃视线不清。
2、 手感
优质膜摸上去有厚实平滑感，而劣质膜手感薄而脆，容易起皱。
3、 颜色
优质膜的颜料是溶和在车膜中，经久耐用，不易变色，在粘贴过程中经刮板涂刮也不会脱色。而劣质膜的。颜色在胶中，撕开车膜的内衬后用指甲刮一下，颜色就掉了，膜片被指甲刮过的地方会变得透明。在贴膜过程中，当刮板膜时，有时颜色会自行脱落，这种膜当年就会变色，一年后褪色更为明显。
4、 气泡
当撕开车膜的塑料内衬后，再重新复合时，劣质膜会起泡，而优质膜复合后完好如初。
5、 隔热性能
隔热性是太阳膜的一个重要指标，而这一点仅凭肉眼和手感是很难鉴别的。可以通过一个简单的测试方法。
简单鉴别的小方法：
在一个碘钨灯上放一块贴着车膜的玻璃，用手感觉不到一丝热的是优质膜，而立即有烫手感觉的则表明其隔热性能有问题，是劣质膜。

❹ 汽车太阳膜原色膜金属膜怎么区分最好提及一下胶染膜

金属膜分为纯金属和金属染色膜两种，你说的原色膜是纯金属膜，这种太阳膜特点是颜色单一，灰黑色为主，透光率t高，胶染膜，范围较大，磁控溅射技术以外工艺生产都可称为胶染膜，特点是透光率低，视线受影响，隔热性能较低

❺ ABS塑料制品电镀前对表面有什么要求（表面缺陷以及对表面缺陷对应的处理方法）望高手指点

ABS塑料制品电镀属于非金属电镀，非金属是电和热的不良导体，因此，必须先使非金属表面形成一层导体-金属薄膜，作为底层金属，方可进行电镀。

金属薄膜的形成方法很多，如化学镀铜、化学镀银、银粉浆高温还原、真空镀膜、环氧树脂或油漆中加金属粉喷涂表面等。不耐高温的材料如塑料。

采用化学镀铜或化学镀银较好，但结合力较差。由于非金属材料和镀层金属间是机械结合，受热时，膨胀系数相差较大，因此非金属电镀结合力较金属电镀结合力差。

(5)薄膜吸附贵金属测试紫外扩展阅读：

清洁(cleaning)：去除塑料成型过程中留下的污物及指纹，可用碱剂洗净再用酸浸中和及水洗干净。

溶剂处理(solvent treatment)：使塑料表面能湿润(wetting)以便与下一步骤的调节剂(conditioner)作用。

调节处理(conditioning)：将塑料表面粗化成内锁的凹洞以使镀层密着住不易剥离，也称为化学粗化。

敏感化(sensitization)：将还原剂吸附在表面，常用(stannous chloride)或其它锡化合物，就是sn离子吸附于塑料表面具有还原性表面。

而ABS塑料因其结构上的优势，不仅具有优良的综合性能，易于加工成型，而且材料表面易于侵蚀而获得较高的镀层结合力，所以目前在电镀中应用极为普遍。

随着工业的迅速发展、塑料电镀的应用日益广泛，成为塑料产品中表面装饰的重要手段之一.目前国内外已广泛在ABS、聚丙烯、聚砜、聚碳酸酯、尼龙、酚醛玻璃纤维增强塑料、聚苯乙烯等塑料表面上进行电镀，其中尤以ABS塑料电镀应用最广，电镀效果最好.

❻ 汽车贴膜哪种好

汽车防爆隔热膜市场比较乱，有上千个品牌产品，但真正性能好，叫得响的产品不多，防爆隔热膜的功能是复合型的，比如防爆性能、抗紫外线性能、通透性能、隔热性能、防眩光性能、增加隐私性能等，判断膜适合度标准要看自己对膜功能的需求在哪里。 如果追求高清晰度和高抗紫外线性能首选3M，如果追求高隔热就选择3M晶锐系列、量子钻石70或威固的V系列，但如果追求高隔热又介意阻挡信号性能和氧化性就选3M晶锐70，如果追求高隐私性也是首选3M（单向透视效果好），如果贴膜随大溜，那3M、雷朋、强生是大品牌膜中市场占有率前三的品牌。选择杂牌产品全车贴膜的价格在1000元以下，正品雷朋膜全车1000元起步，正品强生膜全车1600元起步，正品龙膜全车1800元起步，正品3M膜全车2000元起步，贴膜有2000元上下的就足够了。
选择好品牌后更重要的是选择施工的店面，基础是选择授权店，授权店保真性高，保障性更强的是规模授权店，保障性最强的是成熟的规模授权店，贴前选择膜的时候最好多试几款小样比较比较，看看颜色搭配、通透性能、增加隐私要求等方面是不是适合自己 。
希望能解决您的问题。

❼ 贵金属的分析方法有谁知道吗

贵金属从方法的角度上看，是需要通过富格林进行科学客观的分析才能有正确的认知的。

❽ TiO2薄膜表面沉积贵金属Ag能提高光催化性能的原因

这些内容可以看半导体物理，我试着说说，可能会有错误哈。

1. Ag沉积在TiO2表面就会形成肖特基势垒吗？
   

答：是的，一沉积之后就会形成肖特基势垒，与材料的费米能级相关，与光照无关。

2. 肖特基势垒是如何有利于载流子迁移的啊？
答：光生电子和光生空穴在迁移过程中，电子向金属转移的过程中会被肖特基势垒所捕获，这样就可以使得光生空穴自由的在材料内移动。

3.肖特基势垒和费米能级有什么关系吗？
答：费米能级不同导致了电子和空穴的迁移。一般金属的功函数是大于半导体的功函数，换言之半导体的费米能级要高于金属的费米能级，使得这两种材料在耦合的过程中，电子由半导体迁移到金属，直到两者费米能级相同时为止。所以接触后的空间电荷层，结果就是金属端负电荷聚集，另一端正电荷聚集，从而形成“schottky”势垒。

❾ 请问纳米是一种材料还是一种材料被加工成了纳米

纳米技术
纳米是长度单位，原称毫微米，就是10的-9次方米（10亿分之一米）。纳米科学与技术，有时简称为纳米技术，是研究结构尺寸在1至100纳米范围内材料的性质和应用。从具体的物质说来，人们往往用细如发丝来形容纤细的东西，其实人的头发一般直径为20-50微米，并不细。单个细菌用肉眼看不出来，用显微镜测出直径为5微米，也不算细。极而言之，1纳米大体上相当于4个原子的直径。 纳米技术包含下列四个主要方面：

⒈纳米材料：当物质到纳米尺度以后，大约是在1—100纳米这个范围空间，物质的性能就会发生突变，出现特殊性能。这种既具不同于原来组成的原子、分子，也不同于宏观的物质的特殊性能构成的材料，即为纳米材料。如果仅仅是尺度达到纳米，而没有特殊性能的材料，也不能叫纳米材料。过去，人们只注意原子、分子或者宇宙空间，常常忽略这个中间领域，而这个领域实际上大量存在于自然界，只是以前没有认识到这个尺度范围的性能。第一个真正认识到它的性能并引用纳米概念的是日本科学家，他们在20世纪70年代用蒸发法制备超微离子，并通过研究它的性能发现：一个导电、导热的铜、银导体做成纳米尺度以后，它就失去原来的性质，表现出既不导电、也不导热。磁性材料也是如此，象铁钴合金，把它做成大约20—30纳米大小，磁畴就变成单磁畴，它的磁性要比原来高1000倍。80年代中期，人们就正式把这类材料命名为纳米材料。

⒉纳米动力学，主要是微机械和微电机，或总称为微型电动机械系统,用于有传动机械的微型传感器和执行器、光纤通讯系统，特种电子设备、医疗和诊断仪器等.用的是一种类似于集成电器设计和制造的新工艺。特点是部件很小，刻蚀的深度往往要求数十至数百微米，而宽度误差很小。这种工艺还可用于制作三相电动机，用于超快速离心机或陀螺仪等。在研究方面还要相应地检测准原子尺度的微变形和微摩擦等。虽然它们目前尚未真正进入纳米尺度，但有很大的潜在科学价值和经济价值。

⒊纳米生物学和纳米药物学，如在云母表面用纳米微粒度的胶体金固定dna的粒子，在二氧化硅表面的叉指形电极做生物分子间互作用的试验，磷脂和脂肪酸双层平面生物膜，dna的精细结构等。有了纳米技术，还可用自组装方法在细胞内放入零件或组件使构成新的材料。新的药物，即使是微米粒子的细粉，也大约有半数不溶于水；但如粒子为纳米尺度（即超微粒子），则可溶于水。

⒋纳米电子学，包括基于量子效应的纳米电子器件、纳米结构的光/电性质、纳米电子材料的表征，以及原子操纵和原子组装等。当前电子技术的趋势要求器件和系统更小、更快、更冷,更小,是指响应速度要快。更冷是指单个器件的功耗要小。但是更小并非没有限度。 纳米技术是建设者的最后疆界，它的影响将是巨大的。

在1998年的四月，总统科学技术顾问，Neal Lane 博士评论到，如果有人问我哪个科学和工程领域将会对未来产生突破性的影响，我会说该个启动计划建立一个名为纳米科技大挑战机构，资助进行跨学科研究和教育的队伍，包括为长远目标而建立的中心和网络。一些潜在的可能实现的突破包括：

把整个美国国会图书馆的资料压缩到一块像方糖一样大小的设备中，这通过提高单位表面储存能力1000倍使大存储电子设备储存能力扩大到几兆兆字节的水平来实现。由自小到大的方法制造材料和产品，即从一个原子、一个分子开始制造它们。这种方法将节约原材料和降低污染。生产出比钢强度大10倍，而重量只有其几分之一的材料来制造各种更轻便，更省燃料的陆上、水上和航空用的交通工具。通过极小的晶体管和记忆芯片几百万倍的提高电脑速度和效率，使今天的奔腾?处理器已经显得十分慢了。运用基因和药物传送纳米级的mri对照剂来发现癌细胞或定位人体组织器官去除在水和空气中最细微的污染物，得到更清洁的环境和可以饮用的水。提高太阳能电池能量效率两倍。

什么是纳米科技？

纳米科学技术是研究在千万分之一米(10-8)到亿分之一米(10-9米)内，原子、分子和其它类型物质的运动和变化的学问；同时在这一尺度范围内对原子、分子进行操纵和加工又被称为纳米技术。

纳米科技的研究内容

创造和制备优异性能的纳米材料

设计、制备各种纳米器件和装置

探测和分析纳米区域的性质和现象

什么是纳米？

纳米是尺寸或大小的度量单位：

千米（103 ）→米→厘米→毫米→微米→纳米（ 10-9）

4倍原子大小，万分之一头发粗细

纳米科技研究什么问题？

生物科学技术、信息科学技术、纳米科学技术是下一世纪内科学技术发展的主流。生物科学技术中对基因的认识，产生了转基因生物技术，可以治疗顽症，也可以创造出自然界不存在的生物；信息科学技术使人们可以坐在家中便知天下大事，因特网几乎可以改变人们的生活方式。

纳米科学是研究在千万分之一米(10-8)到亿分之一米(10-9米)内，原子、分子和其它类型物质的运动和变化的学问；同时在这一尺度范围内对原子、分子进行操纵和加工又被称为纳米技术。

还原论：把物质的运动都还原到原子、分子这一层面上。原子论和量子力学取得了巨大的成功。有机合成；分子生物学；转基因食品、克隆羊；原子光谱和激光；固体电子论和IC；几何光学到光纤通讯。

宏观世界上经典物理、化学、力学的巨大成就：计算机和网络、宇宙飞船、飞机、汽车、机器人等改变了人们的生活方式

科学技术有认识上的盲区或人类知识大厦上的裂缝。裂缝的一边是以原子、分子为主体的微观世界，另一岸是人类活动的宏观世界。两个世界之间不是直接而简单的联结，存在一个过渡区--纳米世界。

例：分子合成 ≤1.5nm, →活体

微电子技术在0.2μm,

显微外科只能连接大、小、微血管

≤ PM10和PM1.5的微粒

50年代，钱老“物理力学”是企图连接两个世界的前驱工作之一

图中显示用扫描隧道显微镜

的针尖在铜表面上搬运和操

纵48个原子，使它们排成圆

形。圆形上原子的某些电子

向外传播，逐渐减小，同时

与相内传播的电子相互干涉

形成干涉波。

几十个原子、分子或成千个原子、分子“组合”在一起时，表现出既不同于单个原子、分子的性质，也不同于大块物体的性质。这种“组合”被称为“超分子”或“人工分子”。“超分子”性质，如熔点、磁性、电容性、导电性、发光性和染、颜色及水溶性有重大变化。当“超分子”继续长大或以通常的方式聚集成大块材料时，奇特的性质又会失去，像真是一些长不大的孩子。

在10nm尺度内，由数量不多的电子、原子或分子组成的体系中新规律的认识和如何操纵或组合及探测、应用它们---纳米科学技术的主要问题。

原子和分子的微观世界和宏观世界的过渡区内的新现象和新规律

探测纳米长度内物理、化学生物信息的新原理和新方法

新概念和新理论：强关联、强场、快过程、少粒子的量子体系

应用

新科学还是老理论的翻版？

历史悠久的新科学技术

西汉铜镜和黑漆鼓

徽墨

漆器

催化剂材料

感光材料和彩色胶片

含有高岭土颗粒的轮胎

WHY？不清楚

近十年，计算机和材料设计；探测技术STM、AFM、SNOM；IC和生命科学的推动；制备技术发展；理论的发展

高强度和高韧性、可自修复、有智能、可再生→新一代纳米材料

为什么小尺寸会有如此重要的影响？

表面效应

小尺寸效应

量子限域效应

研究目标和可能的应用

材料和制备：更轻、更强和可设计；长寿命和低维修费；以新原理和新结构在纳米层次上构筑特定性质的材料或自然界不存在的材料；生物材料和仿生材料；材料破坏过程中纳米级损伤的诊断和修复；

微电子和计算机技术：2010年实现线条为100nm的芯片，纳米技术的目标为：纳米结构的微处理器，效率提高一百万倍；10倍带宽的高频网络系统；兆兆比特的存储器（提高1000倍）；集成纳米传感器系统；

医学与健康

快速、高效的基因团测序和基因诊断和基因治疗技术；用药的新方法和药物'导弹'技术；耐用的人体友好的人工组织和器官；复明和复聪器件；疾病早期诊断的纳米传感器系统

航天和航空

低能耗、抗辐照、高性能计算机；微型航天器用纳米测试、控制和电子设备；抗热障、耐磨损的纳米结构涂层材料

环境和能源

发展绿色能源和环境处理技术，减少污染和恢复被破坏的环境；

孔径为1nm的纳孔材料作为催化剂的载体；MCM-41有序纳孔材料（孔径10-100nm）用来祛除污物；纳米颗粒修饰的高分子材料

生物技术和农业

在纳米尺度上，按照预定的大小、对称性和排列来制备具有生物活性的蛋白质、核糖、核酸等。在纳米材料和器件中植入生物材料产生具有生物功能和其他功能的综合性能。，生物仿生化学药品和生物可降解材料，动植物的基因改善和治疗，测定DNA的基因芯片等

❿ 薄膜的应用参数

三氧化二钇
名称：钇（Y）
三氧化二钇，（Y2O3）使用电子枪蒸镀，该材料性能随膜厚而变化，在500nm时折射率约为1.8，用作铝保护膜极其受欢迎，特别相对于800-12000nm区域高入射角而言，可用作眼镜保护膜，且24小时暴露于湿气中，一般为颗粒状和片状。
透光范围（nm) 折射率（N) 500nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 蒸气成分
250--8000 1.79 2300--2500 电子枪 防反膜，铝保护膜 名称：二氧化铈（CeO2）
使用高密度的钨舟皿（较早使用）蒸发，在200℃的基板上蒸着二氧化铈，得到一个约为2.2的折射率，在大约3000nm有一吸收带其折射率随基板温度的变化而发生显著变化，在300℃基板500nm区域折射率为2.45，在波长短过400nm时有吸收，传统方法蒸发缺乏紧密性，用氧离子助镀可取得n=2.35（500nm）的低吸收性薄膜，一般为颗粒状，还可用一增透膜和滤光片等。
透光范围（nm) 折射率（N) 500nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量
400--16000 2.35 约2000 电子枪 防反膜， 多
名称：氧化镁（MgO)
必须使用电子枪蒸发因该材料升华，坚硬耐久且有良好的紫外线（UV）穿透性，250nm时n=1.86，190nm时n=2.06， 166nm时K值为0.1， n=2.65。可用作紫外线薄膜材料。MGO/MGF2膜堆从200nm---400nm区域透过性良好，但膜层被限制在60层以内（由于膜应力）500nm时环境基板上得到n=1.70。由于大气CO2的干扰，MGO暴露表面形成一模糊的浅蓝的散射表层，可成功使用传统的MHL折射率3层AR膜（MgO/CeO2/MgF2）。 名称：硫化锌（ZnS)
折射率为2.35,400-13000nm的透光范围，具有良好的应力和良好的环境耐久性， ZnS在高温蒸着时极易升华，这样在需要的膜层附着之前它先在基板上形成一无吸附性膜层，因此需要彻底清炉，并且在最高温度下烘干，花数小时才能把锌的不良效果消除.HASS等人称紫外线（UV）对ZNS有较大的影响，由于紫外线在大气中导致15-20nm厚的硫化锌膜层完全转变成氧化锌(ZNO）。
透光范围（nm) 折射率（N) 550nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 方式
400--14000 2.35 1000--1100 电子枪，钽钼舟 防反膜， 升华
应有：分光膜，冷光膜，装饰膜，滤光片，高反膜，红外膜. 名称：二氧化钛（TiO₂)
TiO₂由于它的高折射率和相对坚固性，人们喜欢把这种高折射率材料用于可见光和近红外线区域,但是它本身又难以得到一个稳定的结果.TiO₂,Ti2O3. TiO,Ti，这些原材料氧-钛原子的模拟比率分别为：2.0,1.67,1.5,1.0,0. 后发现比率为1.67的材料比较稳定并且大约在550nm生成一个重复性折射率为2.21的坚固的膜层，比率为2的材料第一层产生一个大约2.06的折射率，后面的膜层折射率接近于2.21.比率为1.0的材料需要7个膜层将折射率2.38降到2.21.这几种膜料都无吸收性，几乎每一个TiO2蒸着遵循一个原则：在可使用的光谱区内取得可以忽略的 吸收性，这样可以降低氧气压力的限制以及温度和蒸着速度的限制.TiO2需要使用IAD助镀，氧气输入口在挡板下面.
Ti3O5比其它类型的氧化物贵一些，可是很多人认为这种材料不稳定性的风险要小一些，PULKER等人指出，最后的折射率与无吸收性是随着氧气压力和蒸着温度而改变的，基板温度高则得到高的折射率.例如，基板板温度为400℃时在550纳米波长得到的折射率为2.63，可是由于别的原因，高温蒸着通常是不受欢迎的，而离子助镀已成为一个普遍采用的方法其在低温甚至在室温时就可以得到比较高的折射，通常需要提供足够的氧气以避免（因为有吸收则降低透过率），但是可能也需要降低吸收而增大镭射损坏临界值（LDT).TiO2的折射率与真空度和蒸发速度有很大的关系，但是经过充分预熔和IAD助镀可以解决这一难题，所以在可见光和近红外线光谱中，TiO2很受到人们的欢迎. 在IAD助镀TiO2时，使用屏蔽栅式离子源蒸发则需要200EV，而用无屏蔽栅式离子源蒸发时则需要333EV或者更少一些，在那里平均能量估计大约是驱动电压的60%，如果离子能量超过以上数值，TiO2将有吸收.而SiO2有电子枪蒸发可以提供600EV碰撞（离子辐射）能量而没有什么不良效应. TiO2/SiO2制程中都使用300EV的驱动电压，目的是在两种材料中都使用无栅极离子源，这样避免每一层都改变驱动电压，驱动电压高低的选择取决于TiO2所允许的范围，而蒸着速度的高低取决于完全致密且无吸收膜所允许之范围. TiO₂用于防反膜，分光膜，冷光膜，滤光片，高反膜,眼镜膜，热反射镜等，黑色颗粒状和白色片状，熔点：1175℃
透光范围（nm) 折射率（N) 500nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量
400--12000 2.35 2000-2200 电子枪，防反膜，增透 多
TiO2用于防反膜，装饰膜，滤光片，高反膜
Ti2O3用于防反膜 滤光片 高反膜 眼镜膜 名称：氟化钍（ThF4）
260-12000nm以上的光谱区域，是一种优秀的低折射率材料，然而存在放射性，在可视光谱区N从 1.52降到1.38（1000nm区域）在短波长趋近于1.6，蒸发温度比MGF2低一些，通常使用带有凹罩的舟皿以免THF4良性颗粒火星飞溅出去，而且形成的薄膜似乎比MGF2薄膜更加坚固.该膜在IR光谱区300NM小水带几乎没有吸收，这意味着有望得到一个低的光谱移位以及更大的整体坚固性，在8000到12000NM完全没有材料可以替代. 名称： 二氧化硅（SiO2）
经验告诉我们，氧离子助镀（IAD)SiO将是SiO2薄膜可再现性问题的一个解决方法，并且能在生产环境中以一个可以接受的高速度蒸着薄膜.
SiO2薄膜如果压力过大，薄膜将有气孔并且易碎，相反压力过低薄膜将有吸收并且折射率变大，需要充分提供高能离子或氧离子以便得到合乎需要的速度和特性，必要是需要氧气和氩气混合充气，但是这是热镀的情况，冷镀时这种性况不存在.
SiO2用于防反膜，冷光膜，滤光片，绝缘膜，眼镜膜，紫外膜.
透光范围（nm) 折射率（N) 550nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量
200--2000 1.46 1800-2200 电子枪，防反膜，增透 少，升华
无色颗粒状，折射率稳定，放气量少,和OS-10等高折射率材料组合制备截止膜，滤光片等. 名称： 一氧化硅（SiO)
透光范围（nm) 折射率（N) 550nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量
600--8000 1.55 at550nm1.8at1000nm1.6at7000nm 1200-1600 电子枪，钽钼舟 冷光膜装饰膜保护膜，升华
制程特性：棕褐色粉状或细块状.
熔点较低，可用钼舟或钛舟蒸发，但需要加盖舟因为此种材料受热直接升华.
使用电子枪加热时不能将电子束直接打在材料上而采用间接加热法.
制备塑料镜片时，一般第一层是SiO，可以增加膜的附着力.
名称：OH-5(TiO2+ZrO2）
透光范围（nm) 折射率（N)
550nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量
300--8000 2.1 约2400 电子枪，
增透 一般
蒸气成分为：ZrO,O2,TiO,TiO2
呈褐色块状或柱状
尼康公司开发之专门加TS--ェート系列抗反射材料，折射率受真空度，蒸发速率，氧气压力的影响很大，蒸镀时不加氧或加氧不充分时，制备薄膜会产生吸收现象，但是我们在实际应用时没有加氧也比较好用. 名称：二氧化锆（ZrO2）
ZrO2具有坚硬，结实及不均匀之特性，该薄膜有是需要烘干以便除去它的吸收，其材料的纯度及为重要，纯度不够薄膜通常缺乏整体致密性，它得益于适当使用IAD来增大它的折射率到疏松值以便克服它的不均匀性.纯度达到99.99%基本上解决了以上的问题.SAINTY等人成功地使用ZRO2作为铝膜和银膜的保护膜，该膜层（指ZRO2）是在室温基板上使用700EV氩离子助镀而得到的.一般为白色柱状或块状，蒸发分子为ZRO,O2.
透光范围（nm) 折射率（N)
550nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量
320-7000 2.05
⒉0AT2000 约2500 电子枪，
增透，加硬膜
眼镜膜保护膜 一般
制程特性：白色颗粒，柱状，或块状，粉状材料使用钨舟或钼舟.颗粒状，粉状材料排杂气量较多，柱状或块状较少.
真空度小于2*10-5Torr条件下蒸发可得到较稳定的折射率，真空度大于5*10-5Torr时蒸发，薄膜折射率逐渐变小。
蒸镀时加入一定压力的氧气可以改善其材料之不均匀性。 名称：氟化镁（MgF2）
MGF2作为1/4波厚抗反射膜普遍使用来作玻璃光学薄膜，它难以或者相对难以溶解，而且有大约120NM真实 紫外线到大约7000nm的中部红外线区域里透过性能良好。OLSEN，MCBRIDE等人指出从至少200NM到6000NM的区域里，2.75MM厚的单晶体MGF2是透明的，接着波长越长吸收性开始增大，在10000NM透过率降到大约2%，虽然在8000-12000NM区域作为厚膜具有较大的吸收性，但是可以在其顶部合用一薄膜作为保护层.
不使用IAD助镀，其膜的硬度，耐久性及密度随基板的温度的改变而改变的.在室温中蒸镀，MGF2膜层通常被手指擦伤，具有比较高的湿度变化.在真空中大约N=1.32，堆积密度82%，使用300（℃）蒸镀，其堆积密度将达到98%,N=1.39它的膜层能通过消除装置的擦伤测试并且温度变化低，在室温与300（℃）之间，折射率与密度的变化几乎成正比例的. 在玻璃上冷镀MGF2加以IAD助镀可以得到300（℃）同等的薄膜，但是125-150EV能量蒸镀可是最适合的.在塑料上使用IAD蒸镀几乎强制获得合理的附着力与硬度.经验是MGF2不能与离子碰撞过于剧烈.
透光范围（nm) 折射率（N)
550nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量
2000-7000 1.38
⒈35AT200 约1100 电子枪，
钼钽钨舟 增透，加硬膜
眼镜膜 少，MGF2
（MGF2）2
制程特性：折射率稳定，真空度和速率对其变化影响小
预熔不充分或蒸发电流过大易产生飞溅，造成镜片木不良.在打开档板后蒸发电流不要随意加减，易飞溅.基片须加热到高的张应力
白色颗粒状，常用于抗反射膜，易吸潮.购买时应考虑其纯度.
三氧化二铝
名称：三氧化二铝（Al2O3）
普遍用于中间材料，该材料有很好的堆积密度并且在200-7000NM区域的透明带，该制程是否需要加氧气以试验分析来确定，提高基板温度可提高其折射率，在镀膜程式不可理更改情况下，以调整蒸发速率和真空度来提高其折射率.
透光范围（nm) 折射率（N)
550nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量
200-7000 1.63 2050 电子枪，增透，保护膜
眼镜膜 一般，Al,O,
O2,AlO,Al2O,(AlO)2
制程特性：白色颗粒状或块状，结晶颗粒状等.
非结晶状材料杂气排放量高，结晶状材料相对较少.
折射率受蒸着真空度和蒸发速率影响较大，真空不好即速率低则膜折射率变低；真空度好蒸发速率较快时，膜折射率相对增大，接近1.62
Al2O3蒸发时会产生少量的Al分子造成膜吸收现象，加入适当的O2时，可避免其吸收产生.但是加氧气要注意不要影响到它的蒸发速率否则改变了它的折射率.
名称：OS-10(TiO2+ZrO2）
透光范围（nm) 折射率（N)
550nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量
250-7000 2.3 2050 电子枪，增透，滤光片，截止膜
一般，
制程特性：棕褐色颗粒状. 杂气排放较大，预熔不充分或真空度小于5*10-5Torr时蒸发，其折射率会比2.3小，帮必须充分预熔且蒸发真空度希望大于上述这数值.蒸发此种材料时宜控制衡定的蒸发速率，材料可添加重复使用，为减少杂气排放量，尽量避免全数使用新材料.
蒸气中的Ti和TiO和O2反应生成TiO2
常用于制备抗反射膜和SiO2叠加制备各种规格的截止膜系和滤光片等. 名称：锗（Ge)
稀有金属，无毒无放射性，主要用于半导体工业，塑料工业，红外光学器件，航天工业，光纤通讯等.透光范围2000NM---14000NM,n=4甚至更大，937（℃）时熔化并且在电子枪中形成一种液体，然后在1400（℃）轻易蒸发.用电子枪蒸发时它的密度比整体堆积密度低，而用离子助镀或者镭射蒸镀可以得到接近于松散密度.在锗基板上与THF4制备几十层的8000---12000NM带通滤光片，如果容室温度太高吸收将有重大变化，在240--280（℃）范围内，在从非晶体到晶体转变的过程中GE有一个临界点. 名称：锗化锌（ZnGe)
疏散的锗化锌具有一个比其相对较高的折射率，在500NM时N=2.6，在可见光谱区以及12000-14000NM区域具有较少的吸收性并且疏散的锗化锌没有其材质那么硬.使用钽舟将其蒸发到150℃的基板上制备SI/ZnGe及ZnGe/LaF3膜层试图获到长波长IR渐低折射率的光学滤镜. 名称：氧化铪（HfO2）
在150℃的基板上有用电子枪蒸着，折射率在2.0左右，用氧离子助镀可能取和得2.05-2.1稳定的折射率，在8000-12000NM区HFO2用作铝保护膜外层好过SIO2
透光范围（nm) 折射率（N)
550nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量
230-7000 2.0 2350 电子枪，增透，高反膜
紫外膜 少
无色圆盘状或灰色颗粒状和片状. 名称：碲化铅（PbTe）
是一种具有高折射率的IR材料，作为薄膜材料在3800---40000NM是透明的，在红外区N=5.1-5.5，该材料升华，基板板温度250℃是有益的，健康预防是必要的，在高达40000NM时使用效果很好，别的材料常常用在超过普通的14000NM红外线边缘. 名称：铝氟化物（AlF3）
可以在钼中升华， 在190-1000NM区域有透过性，N=1.38，有些人声称已用在EⅪMER激光镜，它无吸收性，在250-1000NM区域透过性良好.ALF3是冰晶石，是NaAlF4的一个组成部分，且多年来一直在使用，但是在未加以保护层时其耐久性还未为人知.
铈（Ce）氟化物
名称：铈（Ce）氟化物
Hass等人研究GeF3，他们使用高密度的钨舟蒸发发现在500NM时N=1.63，并且机械强度和化学强度令人满意，他们指出在234NM和248NM的吸收最大，而在波长大过300NM时吸收可以忽略.FUJIWARA用钼舟蒸发CEF3和CEO2混合物，得到一个1.60---2.13的合乎需要的具有合理重复性的折射率，他指出该材料的机械强度和化学强度都令人满意.
透光范围（nm) 折射率（N)
500nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量
300-5000 1.63 约1500 电子枪，
钼钽钨舟 增透，
眼镜 少 名称：氟化钙（CaF2）
CaF2是Heavens提出来的，它可以在10-4以上的压力下蒸发获得一个约为1.23---1.28的折射率。可是他说最终的膜层不那么令人满意，在室温下蒸着氟化钙其堆积密度大约为0.57，这与Ennos给出的疏散折射率1.435相吻合,这说明该材料不耐用并容易随温度变化而变化.原有的高拉应力随膜厚增大而降低，膜厚增大导致大量的可见光散射.可以用钨钽舟钼舟蒸发而且会升华，在红外线中其穿透性超过12000nm，它没有完全的致密性似乎是其利用受到限制的原因，随着IAD蒸着氟化物条件的改善这种材料的使用前景更为广阔. 名称：氟化钡（BaF2）
与氟化钙具有相似的物理特性，在室温下蒸镀氟化钡，使用较低的蒸着速度时材料的堆积密度为0.66，并且密度变化与蒸着速度增大几乎成正比，在速度为20NM/S堆积密度高达0.83，它的局限性又是它缺乏完全致密性.透过性在高温时移到更长的波长，所以它只能用在红外膜.
透光范围（nm) 折射率（N)
500nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量
250-15000 1.48 约1500 电子枪，
钼钽钨舟 红外膜 少 名称：氟化铅（PbF2）
氟化铅在UV中可用作高折射率材料，在300nm时N=1.998，该材料与钼钽，钨舟接触时折射率将降低，因此需要用铂或陶瓷皿.Ennos指出氟化铅具有相对较低的应力，开始是压力，随着膜厚度的增加张力明显增大，但这与蒸着速度无关.
透光范围（nm) 折射率（N)
500nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量
250-17000 1.75 700--1000 电子枪，
铂舟，坩锅 红外膜 少 名称：铬（Cr)
铬有时用在分光镜上并且通常用作胶质层来增强附着力，胶质层可能在5-50NM的范围内，但在铝镜膜导下面，30NM是增强附着力的有效值.颗粒状可用钨舟蒸发而块状宜用电子枪来蒸发，该材料升华，但是表面氧化物可以防止它蒸发/升华，可以全用铬电镀钨丝.可以用铬作为胶质层对金镜化合物进行韧性处理，也可在塑料上使用铬作为胶质层.也可使用一个螺旋状的钨丝蒸发.它应该是所有材料中具有最高拉应力的材料.
透光范围（nm) 折射率（N)
500nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量
⒈5 1300--1400 电子枪，
铂舟，钨舟 吸收膜分光膜导电膜加硬膜 名称：铝（Al)
不管是装饰膜还是专业膜都是普遍用于蒸发/溅镀镜膜，常用钨丝来蒸发铝丝，在紫外域中它是普通金属中反射性能最好的一种,在红外域中不用Cu,Ag,Au.铝原先有一个比较高的拉应力，在不透明厚度时，该 拉应力降低到一个小的压应力，并且蒸着以后拉应力进一步降低.其膜的有效厚度为50NM以上. 名称：银（Ag)
如果蒸着速度足够快并且基板温度不很高时，银和铝一样具有良好的反射性，这是在高速低温下大量集结的结果，这一集结同时导致更大的吸收.银通常不浸湿钨丝，但是往往形成具有高表面张力的液滴，它可以用一高紧密性的螺旋式钨丝来蒸发，从而避免液滴下掉.有人先在一个V型钨丝上绕几圈铂丝接着绕上银丝，银丝可以浸湿铂丝但没有浸湿钨丝. 名称：金（Au)
金在红外线1000nm波长以上是已知材料中具有最高反射性的材料，作为一种贵重金属，它具有较强的化学坚硬性，由于它的可塑性因而抗擦伤性能低，AU可用钨或氮化硼舟皿或者电子枪来蒸发（不能与铂舟蒸发，它与铂很快合金）.金对玻璃表面的附着力低，因而通常使用一层铬作为胶质层.也可用氧离子助镀使金的附着力得到上百倍的改善，在不透明性达到即中止IAD，并且最后的薄膜中不含有氧，掺氧将降低薄膜的反射率.
铟---锡氧化物
名称：铟---锡氧化物和导电材料
铟-锡氧化物（ITO）和In3O5-SnO2有相对良好的导电性能和可见光穿性.这样的薄膜在数据显示屏和抗热防霜装置等方面已有很大原需求.在建筑上可用作择光窗和可控穿透窗.ITO n=1.85 at500nm熔化温度约1450℃.
名称：铝（Al)
不管是装饰膜还是专业膜都是普遍用于蒸发/溅镀镜膜，常用钨丝来蒸发铝丝，在紫外域中它是普通金属中反射性能最好的一种，在红外域中不用Cu,Ag,Au.铝原先有一个比较高的拉应力，在不透明厚度时，该 拉应力降低到一个小的压应力，并且蒸着以后拉应力进一步降低.其膜的有效厚度为50NM以上.
名称：H1
透光范围(nm) 折射率（N)
500nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量
360--7000 2.1 2200-2400 电子枪，增透，眼镜膜 少
名称：H2
透光范围（nm) 折射率（N)
500nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量
400-5000 2.1 2200 电子枪，增透，眼镜膜 少
名称：H4
透光范围（nm) 折射率（N)
500nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量
360--7000 2.1 2200-2400 电子枪，增透，眼镜膜滤光片 少
名称：M1
透光范围（nm) 折射率（N)
500nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量
300--9000 1.7 2200-2400 电子枪，增透，偏光膜 少
名称：M2
透光范围（nm) 折射率（N)
500nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量
210--10000 1.7 2100 电子枪，增透，偏光膜分光膜 少
名称：M3
透光范围（nm) 折射率（N)
500nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量
220--10000 1.8 2100 电子枪，增透，偏光膜 少
名称：H5
透光范围（nm) 折射率（N)
500nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量
210--10000 2.2 2100 电子枪,增透，滤光片 少
名称：氧化钽（Ta2O5）
透光范围（nm) 折射率（N)
500nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量
400--000 2.1 1900--2200 电子枪，增透，干涉滤光片 少
名称：WR--1
透光范围（nm) 折射率（N)
500nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量
380--700 约1.5 360--450 钼舟，顶层膜眼镜膜 少
名称：WR--2
透光范围（nm) 折射率（N)
500nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量
380--700 约1.5 360--450 电子枪，钼舟 顶层膜防水膜眼镜膜 少
名称：WR--3
透光范围（nm) 折射率（N)
500nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量
380--700 约1.3 350--500 钼舟 顶层膜保护膜眼镜膜 少
名称：L--5
透光范围（nm) 折射率（N)
500nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量
300--7000 1.48 约2000 电子枪，增透，眼镜膜 少
名称：锥冰晶石（Na5AL3F14）
透光范围（nm) 折射率（N)
500nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量
250--14000 约1.33 800--1200 钼舟钽舟 滤光片，紫外膜 少
冰晶石（Na3ALF6）
默克公司研制的一系列的混合膜料
H1 高折射率：2.1---2.15 适用于防反膜和眼镜膜
H2 高折射率： 2.1-2.15 适用于防反膜和眼镜膜
H4 高折射率： 2.1-2.15 适用于防反膜和滤光片膜眼镜膜
M1 中折射率： 1.65-1.7 适用于防反膜和偏光膜
⒈ H1,H2,H4可用作来生产高折射率的膜层，在250℃的基底上，2.1-2.15的折射率共有同次性.M1可用来生产中折射率的膜层.H1,H4和M1也能镀在未加热的基底上，折射率会下降.
⒉ H1在可见光到紫外波段内有相当高的透过率，在360NM左右有吸收，同ZRO2一样无法从溶解状态下被蒸发较为均匀的膜层.
⒊ H2在可见光波段内有很高的透过率，但在380NM时有截止吸收，这意味着镀膜条件不理想时1/2光学厚度的存在吸收.H2优点在于它能从溶解状态下被蒸发，因此有良好的同次性和均匀的膜厚.
⒋ H4在可见光波段内有很高的透过率，象H1 一样在360NM左右有吸收，它也能从溶解状态下被子蒸发，具有良好的同次性.
⒌ M1在从近红外到近紫外的波段内有很好的透过率，300NM时有吸收，它也能从溶解的状态下被子蒸发，具有良好的同次性和物质，适合于是高折射率的基底上镀增透膜.
在塑料基底上镀膜因为无法加热基底，所以在膜料的选择上倍加小心，以确保它能在低温下形成稳定膜层，由于温度偏低折射率也随之降低，相应的膜层设计也应改变.
MGF2不能在低温下被子蒸镀，因为只有200℃以上温度时它才能形成稳定的薄膜，因此只能选择氧化物来蒸镀，有些人用IAD助镀强制性得到一个近乎坚固的膜
部分膜料在塑料基底上的折射率：
SiO2 Al2O3 M1 Y2O3 ZrO2 H1 H4 TiO2
⒈45 1.62 1.65 1.8 1.9 1.95 1.95 1.9--2
H2不能在低温下被蒸镀，因为它在蓝光波段有吸收。
M1， H4， SiO2可以组成经典的AR膜系
最常用的塑料基底是：
CR-39：N=1.5
PMMA: N=1.48-1.5
聚碳酸脂： N=1.59