1. 抛光液是否易燃
需要分种类,铜金属抛光液一半含有过氧化氢,是可燃的。
2. 使用化学抛光液要注意什么
抛光液是一种不含任何硫、磷、氯添加剂的水溶性抛光剂,具有良好的去油污,防锈,清洗和增光性能,并能使金属制品超过原有的光泽。本产品性能稳定、无毒,对环境无污染等作用,光液使用方法:包括棘轮扳手、开口扳手,批咀、套筒扳手,六角扳手,螺丝刀等,铅锡合金、锌合金等金属产品经过研磨以后,再使用抛光剂配合振动研磨光饰机,滚桶式研磨光式机进行抛光;1抛光剂投放量为(根据不同产品的大小,光饰机的大小和各公司的产品光亮度要求进行适当配置),2:抛光时间:根据产品的状态来定。3、抛光完成后用清水清洗一次并且烘干即可。
英文名
polishing slurry
抛光液
CMP(Chemical Mechanical Polishing)
化学机械抛光
这两个概念主要出现在半导体加工过程中,最初的半导体基片(衬底片)抛光沿用机械抛光、例如氧化镁、氧化锆抛光等,但是得到的晶片表面损伤是及其严重的。直到60年代末,一种新的抛光技术——化学机械抛光技术(CMP Chemical Mechanical Polishing )取代了旧的方法。CMP技术综合了化学和机械抛光的优势:单纯的化学抛光,抛光速率较快,表面光洁度高,损伤低,完美性好,但表面平整度和平行度差,抛光后表面一致性差;单纯的机械抛光表面一致性好,表面平整度高,但表面光洁度差,损伤层深。化学机械抛光可以获得较为完美的表面,又可以得到较高的抛光速率,得到的平整度比其他方法高两个数量级,是目前能够实现全局平面化的唯一有效方法。
制作步骤
依据机械加工原理、半导体材料工程学、物力化学多相反应多相催化理论、表面工程学、半导体化学基础理论等,对硅单晶片化学机械抛光(CMP)机理、动力学控制过程和影响因素研究标明,化学机械抛光是一个复杂的多相反应,它存在着两个动力学过程:
(1)抛光首先使吸附在抛光布上的抛光液中的氧化剂、催化剂等与衬底片表面的硅原子在表面进行氧化还原的动力学过程。这是化学反应的主体。
(2)抛光表面反应物脱离硅单晶表面,即解吸过程使未反应的硅单晶重新裸露出来的动力学过程。它是控制抛光速率的另一个重要过程。
硅片的化学机械抛光过程是以化学反应为主的机械抛光过程,要获得质量好的抛光片,必须使抛光过程中的化学腐蚀作用与机械磨削作用达到一种平衡。如果化学腐蚀作用大于机械抛光作用,则抛光片表面产生腐蚀坑、桔皮状波纹。如果机械磨削作用大于化学腐蚀作用,则表面产生高损伤层。
3. 国内外抛光液种类有哪些适用范围
1965年美国孟山都公司在世界上首先提出了二氧化硅溶胶和凝胶应用于硅晶圆片的抛光加工的专利。从此,半导体用抛光液(slurry)成为了半导体制造中的重要的、必不缺少的辅助材料。半导体硅片抛光工艺是衔接材料与器件制备的边沿工艺,它极大地影响着材料和器件的成品率,并肩负消除前加工表面损伤沾污以及控制诱生二次缺陷和杂质的双重任务。在特定的抛光设备条件下,硅片抛光效果取决于抛光剂及其抛光工艺技术。随着集成电路的集成度的不断提高,相应的要求亦有所提高,不但直径要增大,技术要求也相应地提高,并不断有新的要求出现。
采用SiO2抛光液进行硅片抛光加工,目前多采用化学机械抛光(CMP)技术。抛光工艺中有粗抛光和精抛光之分,故有粗抛光液和精抛光液品种之分。预计在2005年-2010年期间,在我国半导体抛光片业内整体需求抛光液量,每年会以平均增长率为25%比率的增长。2004年间使用SiO2抛光液总共约是157吨。其中粗抛液有约126吨, 精抛液有约31.5吨。
目前在我国半导体硅抛光片加工中,所使用的抛光液绝大多数都靠进口。国外半导体硅抛光液的市场占有率较高生产厂家,主要有美国Rodel & Onden Nalco、美国的DUPONT公司、日本FUJIMI公司等。尽管我国目前在抛光液行业现已发展到有几十家的企业,但是真正涉足到半导体硅片抛光液制造、研发方面的企业很少。无论是产品质量上、还是在市场占有率方面,国内企业都表现出与国外厂家具有相当的差距。
4. 海德103抛光液主要是用来研磨哪些东西的
你把油漆最外层的光油磨完了,一般半年抛一次光就可以了,车子不要随便打蜡很伤油漆的,我是专业做钣金的,你现在只有去重喷漆了,这是最好的办法
5. 抛光液的分类
抛光液的主要产品可以按主要成分的不同分为以下几大类:金刚石抛光液(多晶金刚石抛光液、单晶金刚石抛光液和纳米金刚石抛光液)、氧化硅抛光液(即CMP抛光液)、氧化铈抛光液、氧化铝抛光液和碳化硅抛光液等几类。 多晶金刚石抛光液以多晶金刚石微粉为主要成分,配合高分散性配方,可以在保持高切削率的同时不易对研磨材质产生划伤。
主要应用于蓝宝石衬底的研磨、LED芯片的背部减薄、光学晶体以及硬盘磁头等的研磨和抛光。 氧化硅抛光液(CMP抛光液)是以高纯硅粉为原料,经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。
广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光,如:硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料砷化镓、磷化铟,精密光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。 氧化铈抛光液是以微米或亚微米级CeO2为磨料的氧化铈研磨液,该研磨液具有分散性好、粒度细、粒度分布均匀、硬度适中等特点。
适用于高精密光学仪器,光学镜头,微晶玻璃基板,晶体表面、集成电路光掩模等方面的精密抛光。 是以超细氧化铝和碳化硅微粉为磨料的抛光液,主要成分是微米或亚微米级的磨料。
主要用于高精密光学仪器、硬盘基板、磁头、陶瓷、光纤连接器等方面的研磨和抛光。
6. 女子为何抛光25万元股票给骗子转账
16日下午,一名女子“割肉”抛光了25万元股票,准备转账给骗子,民警赶到她家敲门10多分钟后大喊开门,劈头夺下她正在接听的手机,终于保住了这笔巨款。
刘警官当即要求张女士打电话给银行客服紧急挂失。经查,25万元钱还没转走,刘警官这才松了一口气。随后,他陪着张女士到银行重新办理银行卡并更换密码。
醒悟过来的张女士向民警道谢:“真多亏了你!我真是昏了头,你再晚来几分钟这钱肯定就没了!”
张女士称,当天上午9点多在家中接到自称是“上海市公安局刑警队周警官”的电话,称她涉及一起重大拐卖儿童案,身份证和银行卡被用于洗钱200多万元,要求她到汉口火车站公安局接受调查。张女士起初并不相信,但对方给了一个网址,打开后有一张通缉令,上面的照片正是张女士,姓名、身份证号也无误。对方称,若不来投案将上门拘捕。张女士吓蒙了,为证明“清白”竟在对方操纵下卖掉所有股票,正准备转款时听到门外的刘警官大喊。
防不胜防啊
7. 在国内的话抛光液做的好的有哪几个公司啊
嗯呵呵,国内该行业的领军者北京抛丽斯科技有限公司,从事范围广泛深孔磨削加工,磨削抛光、内孔抛光、 深孔抛光、不锈钢内壁抛光、小孔内壁抛光、深孔加工等等。在国际的交流竞争中,依旧保持着足够的实力,已经可以和国际一流媲美
8. 抛光液成分
玻璃抛光液 玻璃抛光液用于抛光蒙砂玻璃与喷砂玻璃,以加深玻璃的无手印效果,手感光滑,颗粒感可以随意由操作时间而调整,无手印效果明显,可以加深无手印的效果,适用于生产各种移门,抛光后的玻璃表面光滑但颗粒感强.抛光工艺简单易操作。
玻璃抛光液DF-808是北京东方永兴化工最新研制的专门针对超高硬度玻璃设计的新型抛光液,它适用于各类超硬玻璃,例如,水晶工艺品玻璃,高铅玻璃,高硼玻璃,微晶玻璃,光学石英玻璃等等,这类玻璃的特点是化学稳定性好,硬度很高,用普通抛光液进行处理的时候费时费力,而且很容易造成缺陷,而玻璃抛光液DF-808由于添加了有机促进剂,抛光时间很短,一般在5分钟内即可完成,抛光后的玻璃明亮清透,不留瑕疵。
使用方法:
将背面贴好保护膜的干净蒙砂玻璃或异形玻璃直接浸泡到抛光池中,一般反应时间在20秒-5分钟,要根据实际玻璃硬度确定抛光时间,最后用足量的自来水彻底清洗玻璃表面。
注意事项:
工人必须戴塑胶手套工作,如果不慎皮肤接触到本产品,请即用清水洗掉,应该在通风环境中进行操作。
包装规格:塑料桶装30公斤,50公斤,100公斤。
具体配方大家都是保密的。
9. 抛光液都有哪些成分
抛光液不含任何硫、磷、氯添加剂的水溶性抛光剂,具有良好的去油污,防锈,清洗和增光性能,并能使金属制品超过原有的光泽。产品性能稳定、无毒,对环境无污染等优点。
抛光液的主要产品可以按主要成分的不同分为以下几大类:金刚石抛光液(多晶金刚石抛光液、单晶金刚石抛光液和纳米金刚石抛光液)、氧化硅抛光液(即CMP抛光液)、氧化铈抛光液、氧化铝抛光液和碳化硅抛光液等几类。
(9)抛光液的股票扩展阅读:
光液使用方法
包括棘轮扳手、开口扳手,批咀、套筒扳手,六角扳手,螺丝刀等,铅锡合金、锌合金等金属产品经过研磨以后,再使用抛光剂配合振动研磨光饰机,滚桶式研磨光式机进行抛光。
抛光剂投放量为(根据不同产品的大小,光饰机的大小和各公司的产品光亮度要求进行适当配置)。
抛光时间:根据产品的状态来定;抛光完成后用清水清洗一次并且烘干即可。